| 发明名称 | 研磨用组合物和研磨方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供适合研磨二氧化硅膜的用途、特别是研磨设于硅板或多晶硅膜上的二氧化硅膜的用途的研磨用组合物，以及使用该研磨用组合物的研磨方法。本发明的研磨用组合物含有缔合度比1大的胶体二氧化硅和酸，pH为1～4。上述酸优选为选自羧酸和磺酸中的至少一种。该研磨用组合物优选进一步含有阴离子表面活性剂。上述阴离子表面活性剂优选为硫酸酯盐或磺酸盐。 | ||
| 申请公布号 | CN101177603A | 申请公布日期 | 2008.05.14 |
| 申请号 | CN200710184982.4 | 申请日期 | 2007.10.31 |
| 申请人 | 福吉米股份有限公司 | 发明人 | 吴俊辉 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01);B24B37/04(2006.01);B24B29/00(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | C09K3/14(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 熊玉兰;李平英 |
| 主权项 | 1.研磨用组合物，该研磨用组合物含有缔合度比1大的胶体二氧化硅和酸，pH为1～4。 | ||
| 地址 | 日本岐阜县各务原市 | ||