| 发明名称 | 曝光装置及曝光方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种曝光装置，该曝光装置能在减少对投影光学系统的振动影响的状态下，以较为简单且轻量的机构来支撑用以测量投影光学系统与既定构件的位置关系的传感器。此曝光装置，以投影光学系统(PL)将标线片(R)的图案像投影至晶片(W)上，其中，从基座框(18)通过悬吊构件(35A～35C)悬吊支撑投影光学系统(PL)，且将固定有传感器用支柱(34A，34B)的测量框架(15)，从基座框(18)通过悬吊构件(35A～35C)加以悬吊支撑。该传感器用支柱(34A，34B)供安装激光干涉仪(12A，12B)。 | ||
| 申请公布号 | CN101180706A | 申请公布日期 | 2008.05.14 |
| 申请号 | CN200680017288.7 | 申请日期 | 2006.10.04 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 坂本英昭 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 任默闻 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，其以投影光学系统投影图案像，其特征在于，所述曝光装置具备：测量单元，其具备用以测量所述投影光学系统、与和所述投影光学系统相关连定位的构件间的位置关系的传感器；以及第1支撑装置，其具有第1柔性构造，用以将所述测量单元与所述投影光学系统分离悬吊支撑。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||