发明名称 高纯(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯的制备方法
摘要 提供了一种制备可水解氯含量非常低的高纯(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯的方法。如下制备高纯(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯:在110至160℃的温度下,对含可水解氯的(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯进行与环氧化合物和胺混合的处理以制备混合物;并通过蒸馏由所得混合物制备高纯(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯。特别地,可以通过添加例如吩噻嗪之类的聚合抑制剂在蒸馏过程中有效地防止(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯聚合。
申请公布号 CN100387573C 申请公布日期 2008.05.14
申请号 CN200480021528.1 申请日期 2004.07.27
申请人 昭和电工株式会社 发明人 森中克利;星和义
分类号 C07C263/20(2006.01);C07C265/02(2006.01) 主分类号 C07C263/20(2006.01)
代理机构 北京市中咨律师事务所 代理人 林柏楠;刘金辉
主权项 1.一种制备高纯(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯的方法,该方法包括:在110至160℃的温度下,对含可水解氯的(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯进行与环氧化合物和胺混合的处理以制备混合物,其中所述混合处理是在基于原料(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯以0.1至20质量%的量加入吩噻嗪的情况下进行的;并在所述混合处理之后,将所得混合物蒸馏以分离(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯,其中所述蒸馏是在基于原料(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯以3至30质量%的量加入吩噻嗪的情况下进行的。
地址 日本东京都