发明名称 曝光装置以及图像形成装置
摘要 提供一种曝光装置以及图像形成装置,其中该曝光装置的第一元件列包括沿X方向排列的多个发光元件,第二元件列包括位于在Y方向上和第一元件列的各发光元件隔开的位置并沿X方向排列的多个发光元件。透镜(44)将来自第一元件列及第二元件列的各发光元件的出射光向被曝光面聚光。通过来自第一元件列及第二元件列各自的发光元件对被曝光面进行多次曝光。第一元件列的发光元件、与第二元件列的相对发光元件位于Y方向上的发光元件的中心间距离,大于第一元件列的比发光元件远离透镜光轴的发光元件、与第二元件列的相对发光元件位于Y方向上的发光元件的中心间距离。由此抑制光点区域的尺寸和能量强度的偏差。
申请公布号 CN101177071A 申请公布日期 2008.05.14
申请号 CN200710162920.3 申请日期 2007.09.27
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 宫泽孝雄
分类号 B41J2/447(2006.01);G03G15/04(2006.01) 主分类号 B41J2/447(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汪惠民
主权项 1.一种曝光装置,具备:第一光源列,其包括沿第一方向排列的多个光源;第二光源列,其包括位于在所述第一方向交叉的第二方向上和所述第一光源列的各光源隔开的位置并沿所述第一方向排列的多个光源;和聚光体,其将来自所述第一光源列以及所述第二光源列的各光源的出射光向被曝光面聚光;通过来自所述第一光源列的光源的出射光、和来自相对该光源位于所述第二方向的所述第二光源列的光源的出射光,对所述被曝光面进行多次曝光;所述第一光源列中的第一光源的中心与所述第二光源列中的第二光源的中心沿所述第一方向的距离,大于所述第一光源列中的第三光源的中心与所述第二光源列中的第四光源的中心沿所述第一方向的距离,其中所述第二光源相对于所述第一光源来说位于所述第二方向上,所述第三光源比所述第一光源更远离所述聚光体的光轴,所述第四光源相对于所述第三光源来说位于所述第二方向上。
地址 日本东京