| 发明名称 | 密封装置和利用该密封装置制造显示装置的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种包括用于局部照射光的掩模的密封装置和利用该密封装置制造显示装置的方法。该密封装置用于通过将密封材料设置在第一基底和第二基底的边缘并且通过对密封材料照射光来结合第一基底和第二基底，该密封装置包括：掩模，设置在台的一侧上，在掩模中，与密封材料的形成位置对应地形成透射部分，从而光可以照射到密封材料；光头，通过掩模的透射部分对密封材料照射光。在掩模的透射部分中形成用于调节对密封材料照射的光的量的图案。 | ||
| 申请公布号 | CN101179032A | 申请公布日期 | 2008.05.14 |
| 申请号 | CN200710180978.0 | 申请日期 | 2007.10.10 |
| 申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 李钟禹;金兑承;朴峻永;郭源奎 |
| 分类号 | H01L21/50(2006.01);H01L21/56(2006.01);H01L21/52(2006.01) | 主分类号 | H01L21/50(2006.01) |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人 | 韩明星;邱玲 |
| 主权项 | 1.一种密封装置，所述密封装置通过沿着第一基底和第二基底的边缘设置密封材料并且通过对密封材料照射光来结合第一基底和第二基底，所述密封装置包括：掩模，设置在第二基底上，并且包括与密封材料对应形成的透射部分，其中，第二基底堆叠在第一基底上；光头，通过掩模的透射部分对密封材料照射光，其中，掩模的透射部分包括用于调节对密封材料照射的光的多个图案。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道水原市灵通区莘洞575 | ||