| 发明名称 | 光学常数计算方法和基板处理系统 | ||
| 摘要 | 本发明提供能够计算基底膜的正确的光学常数，从而能够正确地对晶片的表面构造进行确定的光学常数计算方法。在晶片(W)上将各膜叠层后，对在下方成膜有有机绝缘膜(32)的氧化膜(33)的反射率进行测定，并对通过等离子体将氧化膜(33)除去后露出的有机绝缘膜(32)的反射率进行测定，根据这些反射率计算因加热处理而变质的有机绝缘膜(32)的光学常数和因等离子体而变质的有机绝缘膜(32)的光学常数。 | ||
| 申请公布号 | CN101179042A | 申请公布日期 | 2008.05.14 |
| 申请号 | CN200710167543.2 | 申请日期 | 2007.10.26 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 菊池俊彦 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01) | 主分类号 | H01L21/66(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种光学常数计算方法，其用于计算以下基板的各膜的光学常数，该基板叠层有多个膜，该多个膜中的至少一个基底膜在叠层时光学常数发生变化，所述光学常数计算方法的特征在于：在所述多个膜被叠层后，在将所述各膜除去并露出该各膜的基底膜时，计算该露出的基底膜的光学常数。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||