发明名称 包含氟化物源和牙膏摩擦剂二氧化硅但不含烷基硫酸盐和正磷酸盐的牙膏组合物
摘要 本发明描述了一种抗牙侵蚀和/或牙磨损的牙膏组合物,该组合物包含氟离子源和牙膏摩擦剂二氧化硅,牙膏的相对牙本质磨损(RDA)值为20-60,pH在6.5-7.5的范围内,不含正磷酸盐缓冲剂或水溶性C<SUB>10-18</SUB>烷基硫酸盐。
申请公布号 CN101180099A 申请公布日期 2008.05.14
申请号 CN200680017226.6 申请日期 2006.03.17
申请人 葛兰素集团有限公司 发明人 C·S·纽拜;M·A·尼斯贝特;K·S·普赖斯
分类号 A61Q11/00(2006.01);A61K8/25(2006.01);A61K8/20(2006.01);A61K8/29(2006.01);A61K8/34(2006.01);A61K8/44(2006.01) 主分类号 A61Q11/00(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 刘冬;韦欣华
主权项 1.一种抗牙侵蚀的牙膏组合物,该组合物包含氟离子源和牙膏摩擦剂二氧化硅,牙膏的相对牙本质磨损(RDA)值为20-60,pH在6.5-7.5的范围内,不含正磷酸盐缓冲剂或水溶性C10-18烷基硫酸盐。
地址 英国梅得塞克斯