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发明名称
SYSTEM AND METHOD FOR CREATING A FOCUS-EXPOSURE MODEL OF A LITHOGRAPHY PROCESS
摘要
申请公布号
EP1920369(A2)
申请公布日期
2008.05.14
申请号
EP20060789361
申请日期
2006.08.02
申请人
BRION TECHNOLOGIES, INC.
发明人
YE, JUN;CAO, YU;CHEN, LUOQI;LIU, HUA-YU
分类号
G06F17/50
主分类号
G06F17/50
代理机构
代理人
主权项
地址
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