发明名称 método para formação de fissura intermediária em substrato e equipamento para formação de fissura intermediária em substrato
摘要 <p>MéTODO PARA FORMAçãO DE FISSURA INTERMEDIáRIA EM SUBSTRATO E EQUIPAMENTO PARA FORMAçãO DE FISSURA INTERMEDIáRIA EM SUBSTRATO São providos, um método para formação de uma fissura intermediária e um equipamento para formação de uma fissura intermediária, onde é possível a formação de uma fissura intermediária profunda e reta, e uma excelente superfície rompida de um substrato frágil pode ser obtida como resultado da ruptura. No método para formação de uma fissura intermediária em um substrato frágil, o substrato frágil é irradiado com um feixe de laser ao longo de uma linha de inscrição a laser a ser formada com fissuras intermediárias no substrato frágil de modo a ser aquecido até uma temperatura não superior á sua temperatura de fusão e, dessa forma, a fissura intermediária é criada ao longo da linha de inscrição a laser a ser formada com fissuras intermediárias e expandida a partir de uma incisão que foi formada no substrato frágil; este método para formação de uma fissura intermediária em um substrato frágil é caracterizado pelo fato de que porções de alta temperatura que recebem intensa radiação de um feixe de laser e porções de baixa temperatura que recebem fraca radiação de um feixe de laser são alternadamente formadas ao longo da linha de inscrição a laser a ser formada com fissuras intermediárias.</p>
申请公布号 BRPI0513669(A) 申请公布日期 2008.05.13
申请号 BR2005PI13669 申请日期 2005.07.29
申请人 MITSUBOSHI DIAMOND INDUSTRIAL CO., LTD 发明人 KOJI YAMAMOTO;NOBORU HASAKA
分类号 B28D5/00;B23K26/40 主分类号 B28D5/00
代理机构 代理人
主权项
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