| 主权项 |
1.一种聚醯亚胺金属积层体,其特征为,具有至少一 层以上之由分散有矽石之聚醯亚胺组成物制造的 树脂层,该分散有矽石之聚醯亚胺组成物是在聚醯 亚胺溶液及/或聚醯胺酸溶液中,于水的存在下,使 烷氧基矽烷及其部分水解缩聚物(A)之一种以上和 具有可与矽石形成共价键、氢键或离子键的官能 基的含有胺基之化合物(B)反应而得,250-500℃温度 下之储藏弹性率E'为0.3-30GPa。 2.如申请专利范围第1项之聚醯亚胺金属积层体,其 中,聚醯亚胺溶液及/或聚醯胺酸溶液系含有由2种 以上的二胺化合物和1种以上的四羧酸二酐合成的 聚醯亚胺共聚物及/或聚醯胺酸共聚物的溶液。 3.如申请专利范围第1项之聚醯亚胺金属积层体,其 系采用由通式(1) 表示的化合物作为二胺化合物的至少一种而制造 的聚醯亚胺或聚醯胺酸而形成(通式(1)中,X1、X2各 自独立,系选自单键、氧原子、硫原子、羰基、磺 醯基、可被卤素原子取代的烃基所组成之群组;Y 各自独立地选自氢原子、卤素原子、羟基、烷氧 基、硝基及可被卤素原子取代的烃基所组成之群 组;n表示0-8的整数)。 4.如申请专利范围第1项之聚醯亚胺金属积层体,其 中,将聚醯亚胺溶液及/或聚醯胺酸溶液醯亚胺化 及脱溶剂而成的薄膜之线膨胀率是110-6-7010-6/℃ 。 5.如申请专利范围第1项之聚醯亚胺金属积层体,其 中,可与矽石形成键结的官能基系烷氧基矽烷(silyl )基。 6.如申请专利范围第1项之聚醯亚胺金属积层体,其 中,分散有矽石之聚醯亚胺组成物系下述通式(2): (式中,W系4价的有机基,Z及R2系各自独立的2价的有 机基,R1系氢原子、烃基或芳香族基,Q系可与矽石 形成键结的官能基,亦可键结有矽石,m系0.001以上 、0.5以下之有理数)。 |
