| 主权项 |
1.一种腔室之气体供给装置,系针对由并联状地连 接之复数台的压力式流量控制装置、及控制前述 复数台的压力式流量控制装置之动作的控制装置 所构成,并将所要求的气体一边控制流量一边供给 至藉由真空泵而被排气的腔室内之形态的腔室之 气体供给装置,其特征为: 使前述压力式流量控制装置,由孔口、孔口上游侧 的压力检测器、设在压力检测器的上游侧之控制 阀、及运算控制部所形成;该运算控制部系根据压 力检测器的检测压力P1,利用Qc=KP1(但是K为常数)来 运算通过孔口的气体流量Qc,并将与设定流量Qs之 间的差异Qy,作为驱动用讯号而往控制阀输出;且将 压力式流量控制装置设为使孔口上游侧压力P1和 下游侧压力P2的比P1/P2保持在大约2倍以上的状态 来使用;并且,使前述一台的压力式流量控制装置, 成为控制供给至腔室内的最大流量之至多10%为止 的气体流量区域的装置;其余的压力式流量控制装 置则成为控制剩余的气体流量区域之装置,另外, 控制上述压力式流量控制装置之动作的上述控制 装置,系具备:输入设定部,用于设定对腔室供给之 气体流量;及讯号转换部,用于将上述输入设定部 之输入値转换为对各压力式流量控制装置之控制 讯号;藉由上述讯号转换部发出之控制讯号,使复 数台压力式流量控制装置从控制流量区域小的压 力式流量控制装置开始,依序地动作之同时,在上 述输入设定部设置往分担各流量区域之压力式流 量控制装置发出讯号之控制讯号的上升率设定机 构,构成为在从前述控制讯号的发讯开始, 规定的时间经过后,该压力式流量控制装置供给设 定流量之气体流量,而能够在宽广的流量区域,进 行高精度的流量控制。 2.如申请专利范围第1项所述的腔室之气体供给装 置,其中使并联状地连接之压力式流量控制装置为 2台,其中一台为控制小流量区域的小流量用压力 式流量控制装置,另一台则为控制大流量区域的大 流量用压力式流量控制装置。 3.如申请专利范围第1项所述的腔室之气体供给装 置,其中使并联状地连接之压力式流量控制装置为 2台,且使小流量用压力式流量控制装置的流量控 制区域为最大流量的0.1%-10%;又,使大流量用压力式 流量控制装置的流量控制区域为最大流量的10%-100 %。 4.一种腔室之内压控制方法,其特征为:针对由具备 压力式流量控制装置之气体供给装置,而被供给气 体,并藉由真空泵而通过具备气导阀之真空排气管 路,使其内部连续地减压之腔室;首先,使前述真空 泵连续地运转,并从气体供给装置供给所要求的气 体,分别求出在使前述气导阀开度最大时和开度最 小时的气体流量和腔室内压之间的关系;接着,根 据这些腔室和气体供给量之间的关系,决定在前述 具备真空排气系统之腔室中的往腔室之气体供给 流量和腔室内压的控制范围,并藉由将从前述气体 供给装置供给中的气体流量,调整成对应由该气体 供给流量和腔室内压之间的关系线图所求出之应 该设定的内压之气体供给流量,构成将腔室内压保 持在所要求的设定压力。 5.如申请专利范围第4项所述的腔室之内压控制方 法,其中藉由调整真空排气系统的气导阀的开度和 从气体供给装置来的供给气体流量两者,使得可以 将腔室内压保持在设定压力。 6.如申请专利范围第4项所述的腔室之内压控制方 法,其中针对使气体供给装置,由并联状地连接之 复数台的压力式流量控制装置、及控制前述复数 台的压力式流量控制装置之动作的控制装置所构 成,并将所要求的气体一边控制流量一边供给至藉 由真空泵而被排气的腔室内之形态的腔室之气体 供给装置,使前述压力式流量控制装置,由孔口、 孔口上游侧的压力检测器、设在压力检测器的上 游侧之控制阀、及运算控制部所形成;该运算控制 部系根据压力检测器的检测压力P1,利用Qc=KP1(但是 K为常数)来运算通过孔口的气体流量Qc,并将与设 定流量Qs之间的差异Qy,作为驱动用讯号而往控制 阀输出;且将压力式流量控制装置,作成使孔口上 游侧压力P1和下游侧压力P2的比P1/P2保持在大约2倍 以上的状态来使用;并且,使前述一台的压力式流 量控制装置,成为控制供给至腔室内的最大流量之 至多10%为止的气体流量区域的装置;其余的压力式 流量控制装置则成为控制剩余的气体流量区域之 装置; 进而,将前述控制装置,作成具备设定腔室之供给 的气体流量之输入设定部、将该输入设定部之输 入値转换成各压力式流量控制装置的控制讯号之 讯号转换部之构成;而藉由从讯号转换部往各压力 式流量控制装置发出控制讯号, 作成在宽广的流量区域进行高精度的流量控制之 气体供给装置。 图式简单说明: 第1图系关于本发明的腔室之气体供给装置的第1 实施例的全体系统图;系在基础实验中所使用的气 体供给设备。 第2图系表示在第1图的气体供给装置A中的输入设 定(%)及控制讯号(%)的关系之线图。 第3图系表示在第1图的气体供给装置A中的流量设 定(%)、各压力式流量控制装置的流量(%)、及往腔 室E的供给流量Q之关系的线图。 第4图系表示在第1图的气体供给装置A中往各压力 式流量控制装置之控制讯号的输入状态、及各压 力式流量控制装置之流量输出Q1、Q2和腔室E内的 压力P之间的关系之图;(a)系表示在60sec之间将2台 的压力式流量控制装置的流量由0%往100%变化的情 况;(b)系表示在30sec之间将流量由0%往100%变化的情 况;(c)系表示以阶级状地将流量由0%往100%变化的情 况。 第5图系表示关于使用3台压力式流量控制装置之 本发明的第2实施例之气体供给设备的设定流量(%) 和控制流量Q之关系的线图; 第6图系表示使用本发明的气体供给装置之腔室之 内压控制方法的实施状态的全体系统图。 第7图系表示在第6图所示的腔室之内压控制方法 中之能够控制的腔室内压P及供给流量Q之间的关 系的线图。 第8图系表示使用习知的压力式流量控制装置之腔 室的流体供给装置的说明图。 第9图系压力式流量控制装置的构成图。 第10图系表示习知的处理腔室的真空排气系统的 说明图。 |
