Verfahren zum Korrigieren eines Defektes einer Fotomaske

摘要

Nach einem Herstellen einer elektrischen Verbindung in dem isolierten Muster durch eine abgeschiedene Metallschicht mittels einer CVD des Elektronenstrahls oder des Heliumionenstrahls, der von einer Gasfeldionenquelle erzeugt wird, wird der undurchlässige oder durchlässige Defekt korrigiert und nach der Korrektur wird die abgeschiedene Metallschicht durch eine AFM-Kratzarbeitssonde entfernt. Ein durch den AFM-Kratzvorgang erzeugter Arbeitsabraum wird durch Waschen entfernt.