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发明名称 Composition for removing a photoresist residue and polymer residue, and residue removal process using the same
摘要
申请公布号 EP1635224(A3) 申请公布日期 2008.05.07
申请号 EP20050018230 申请日期 2005.08.23
申请人 KANTO KAGAKU KABUSHIKI KAISHA 发明人 HATA, KISATO;OOWADA, TAKUO
分类号 G03F7/42 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人
主权项
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