| 发明名称 | 光致抗蚀剂元件的形成方法 | ||
| 摘要 | 光致抗蚀剂元件的形成方法，包括以下步骤：制备热熔光致抗蚀剂混合物；使用狭槽口模式涂覆系统将该可光致成像的热熔组合物涂覆到薄膜基材上；将该热熔体冷却到足以阻止流动；和将保护性覆盖膜施加到该部分冷却的组合物的相对表面，从而形成光致抗蚀剂元件。 | ||
| 申请公布号 | CN101176038A | 申请公布日期 | 2008.05.07 |
| 申请号 | CN200680016443.3 | 申请日期 | 2006.05.12 |
| 申请人 | 微量化学公司 | 发明人 | D·W·约翰逊 |
| 分类号 | G03C1/76(2006.01) | 主分类号 | G03C1/76(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈季壮 |
| 主权项 | 1.光致抗蚀剂元件的形成方法，包括以下步骤：(i)制备热熔光致抗蚀剂组合物；(ii)使用狭槽口模式涂覆系统将该光致抗蚀剂组合物涂覆到薄膜基材上；(iii)将该热熔体冷却到足以阻止流动；(iv)将保护性覆盖膜施加到该部分冷却的组合物的相对表面，从而形成光致抗蚀剂元件。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞 | ||