PATIN DE POLISSAGE AYANT DES RAINURES ESPACEES DE MANIERE IRREGULIERE

摘要

L'invention se rapporte à un patin de polissage chimique-mécanique (100) ayant une piste de polissage circulaire (124) et un centre concentrique (116). Le patin de polissage (100) comprend une couche de polissage (104) ayant un dessin de rainure contenant une pluralité de rainures (128) s'étendant chacune à travers la piste de polissage (124). La pluralité de rainures (128) a un pas angulaire qui varie dans une direction circonférentielle autour du centre concentrique (116) du patin (100) et le pas radial entre toutes les rainures adjacentes (128) à l'intérieur de la piste de polissage (124) est inégal.