| 摘要 |
<p>Un patin de polissage chimique-mécanique circulaire comprend une surface de polissage (108) ayant une origine disposée de manière concentrique. La surface de polissage (108) comprend des ensembles de rainures (128, 132) contenant chacun des rainures (128A, 132A) disposées suivant un dessin dans lequel des premières rainures dans un ensemble de rainures croisent des rainures dans un autre ensemble. Les rainures dans chaque ensemble de rainures (128, 132) sont configurées et agencées de telle sorte que la fraction de la surface de polissage (108) qui est rainurée, telle que mesurée le long d'un cercle quelconque qui est concentrique à l'origine et croise les rainures, est sensiblement constante, c'est-à-dire dans la limite d'environ 25% de sa moyenne.</p> |
