次微米尖端电极制造方法及装置

摘要

本发明系有关于一种次微米尖端电极的制造方法及装置,本发明方法先以逆向提拉方式(reversed-dip)蚀刻制程,控制蚀刻液之流速及流量进而控制金属线的蚀刻位置,来达到所要的电极形状及尺寸,制作成具有约10m半径尖端微钛电极,再以50Vol% CH3COOH,50%Vol H2O及5%Vol HCl为电解液做电解研磨制成次微米尖端之钛电极。