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发明名称
薄膜图案层及其制造方法
摘要
本发明涉及一种薄膜图案层,包括:一基板,形成于基板上之复数挡墙,该复数挡墙间形成复数收容空间,及复数形成于收容空间内之薄膜层,其中,每行中之薄膜层厚度之分布系无规律的。所述之薄膜图案层,藉由每行中同种材料之薄膜层厚度之无规律分布,使该行中同种材料之薄膜层厚度均匀性被打乱,变得不均匀,从而使光透过其后所产生之条纹缺陷减少或消除。本发明还提供一种薄膜图案层之制造方法。
申请公布号
TW200820316
申请公布日期
2008.05.01
申请号
TW095141781
申请日期
2006.11.10
申请人
ICF科技有限公司
发明人
周景瑜;陈文卿
分类号
H01L21/00(2006.01);H01L51/50(2006.01);G02B5/20(2006.01)
主分类号
H01L21/00(2006.01)
代理机构
代理人
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区工业东四路24之1号4楼
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