发明名称 薄膜图案层及其制造方法
摘要 本发明涉及一种薄膜图案层,包括:一基板,形成于基板上之复数挡墙,该复数挡墙间形成复数收容空间,及复数形成于收容空间内之薄膜层,其中,每行中之薄膜层厚度之分布系无规律的。所述之薄膜图案层,藉由每行中同种材料之薄膜层厚度之无规律分布,使该行中同种材料之薄膜层厚度均匀性被打乱,变得不均匀,从而使光透过其后所产生之条纹缺陷减少或消除。本发明还提供一种薄膜图案层之制造方法。
申请公布号 TW200820316 申请公布日期 2008.05.01
申请号 TW095141781 申请日期 2006.11.10
申请人 ICF科技有限公司 发明人 周景瑜;陈文卿
分类号 H01L21/00(2006.01);H01L51/50(2006.01);G02B5/20(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 代理人
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区工业东四路24之1号4楼