发明名称 | 估算光罩图案之蚀刻修正量的方法及光罩的制做方法 | ||
摘要 | 一种估算光罩图案之蚀刻修正量的方法及光罩的制做方法。估算蚀刻修正量之方法是先提供光罩的布局资料,再依照光罩各部分的图案配置型态来决定各图案的局部蚀刻修正量。接着依照布局资料计算一晶圆覆盖率,并依照此晶圆覆盖率来决定一全面蚀刻修正量。之后将各图案的局部蚀刻修正量与全面蚀刻修正量相加,即得各图案各自的总蚀刻修正量。光罩的制做方法是依照以前述方法所得之各图案各自的总蚀刻修正量对布局资料进行修正,再对此修正后之布局资料进行光学近接修正,然后根据经过上述两修正之布局资料来形成光罩的图案。 | ||
申请公布号 | TW200819907 | 申请公布日期 | 2008.05.01 |
申请号 | TW095139971 | 申请日期 | 2006.10.30 |
申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 罗招龙;郑善旭 |
分类号 | G03F1/08(2006.01);G03F1/14(2006.01) | 主分类号 | G03F1/08(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |