| 发明名称 | 集成电路制造中捕捉与使用设计企图的方法与装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种在集成电路制造程序中，用以捕捉与使用设计企图之方法与装置。此设计企图信息是伴随着由设计公司所提供的设计版本而产生。此设计版本与设计企图信息连接到一集成电路制造场所其设计版本是用来产生集成电路布局，而设计企图信息则连接到在集成电路制造场所中的设备，特别是测量设备。就其本身而言，设计企图信息可以在制造中最佳化此程序，以达到设计者所企图达到的关键特性的最佳化结果。 | ||
| 申请公布号 | CN100385644C | 申请公布日期 | 2008.04.30 |
| 申请号 | CN200410033729.5 | 申请日期 | 2004.04.09 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | 约翰·H·马杜克;丹尼斯·J·尤斯特;罗宾·W·庄 |
| 分类号 | H01L21/82(2006.01) | 主分类号 | H01L21/82(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王学强 |
| 主权项 | 1.一种用以制造集成电路的方法，其特征在于包括：捕捉一集成电路设计者的设计企图信息；根据该设计企图信息开发一个设计版本；传送该设计企图信息与该设计版本到一集成电路制造场所；根据该设计版本与该设计企图，在该集成电路制造场所的一集成电路制造设备中使用该设计企图信息，以最佳化一集成电路。 | ||
| 地址 | 美国加州 | ||