用等离子体浸没离子注入方法在材料表面形成TiO<SUB>2－x</SUB>薄膜的方法及其应用

摘要

本发明涉及一种用等离子体浸没离子注入方法在材料表面形成TiO_2-x薄膜的方法及其应用。所述方法包括：将待沉积薄膜的材料置于等离子体浸没离子注入装置的真空室中的工作台上，在该真空室中以氧气为气氛环境，其中氧气以等离子体方式存在；以金属弧等离子体方式将钛、钛-钽或者钛-铌等离子体引入该真空室中；向工作台施加频率为500-50000赫兹的负电压脉冲，其脉冲电压幅值在0.1-10千伏，从而在材料表面形成TiO_2-x薄膜或者钽或铌掺杂的TiO_2-x薄膜，其中x约为0-0.35。当所述材料用于人工器官或者植入人体中的与血液相接触的器械时，可以显著地改善其血液相容性。

主权项

1.一种对包括无机材料或有机材料的表面进行全方位表面改性的方法，其特征在于形成钽或铌掺杂的氧化钛薄膜，其中的步骤包括：(a)用钛-铌或钛-钽合金靶或镶嵌靶，以溅射方法在所述材料的表面沉积钛-钽或钛-铌合金薄膜；(b)将所述合金薄膜进行热氧化处理，形成钽或铌掺杂的氧化钛薄膜，其中钽或铌与钛的原子比为0.5∶100-10∶100。