掩模和采用该掩模的沉积装置

摘要

本发明公开了一种掩模和采用该掩模的沉积装置。掩模的一个实施例用于在具有多个子像素区的基底上沉积薄膜。该掩模包括具有多个第一开口的第一区域，每个第一开口与多个子像素区中的一个对应。该掩模还包括具有多个第二开口的第二区域，每个第二开口与多个子像素区中的至少两个对应。第二区域位于第一区域的两侧。

主权项

1.一种用于在半成品显示装置上沉积薄膜的掩模，所述掩模包括：第一区域，包括第一开口的阵列，每个所述第一开口具有沿着第一轴测量的第一长度，第一区域具有沿着与所述第一轴基本垂直的第二轴延伸的边缘；第二区域，与所述第一区域的边缘相邻，所述第二区域包括第二开口的阵列，每个所述第二开口具有沿着所述第一轴测量的第二长度，所述第二长度是所述第一长度的长度的至少两倍，其中，所述第二开口沿着所述第一轴与所述第一开口基本对齐。