| 发明名称 | 投影光学系统、曝光装置及曝光方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种可以防止液体(浸液)向光学系统的内部侵入而维持良好的成像性能的液浸型的投影光学系统。本发明的投影光学系统是将第一面的缩小像经由液体向第二面投影的投影光学系统，投影光学系统具备第一面侧与气体接触且第二面侧与液体接触的边界光学元件(Lb)，边界光学元件的入射面(Lba)朝向第一面具有凸面形状，且以包围边界光学元件的射出面(Lbc)的有效区域的方式形成有槽部(Gr)。 | ||
| 申请公布号 | CN101171667A | 申请公布日期 | 2008.04.30 |
| 申请号 | CN200680015711.X | 申请日期 | 2006.05.08 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 大村泰弘 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G02B17/08(2006.01);G02B13/18(2006.01);G03F7/20(2006.01);G02B13/24(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 雒运朴;李伟 |
| 主权项 | 1.一种投影光学系统，将第一面的像经由液体向第二面投影，该投影光学系统的特征是，上述投影光学系统具备边界光学元件，该元件的上述第一面侧与气体接触且上述第二面侧与上述液体接触，上述边界光学元件的入射面朝向上述第一面具有凸面形状，且以包围上述边界光学元件的射出面的有效区域的方式形成有槽部。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||