发明名称 |
衬底处理方法和加热处理装置 |
摘要 |
本发明的课题是抑制PEB处理中的酸对于抗蚀剂膜的再次附着。包含:在衬底上形成化学放大型抗蚀剂膜的工序;对上述化学放大型抗蚀剂膜照射能量线以形成潜像的工序;以及对上述化学放大型抗蚀剂膜进行加热处理的工序,一边使加热上述化学放大型抗蚀剂膜的加热部和上述衬底相对地移动,一边在上述加热部下表面与上述化学放大型抗蚀剂膜之间形成相对于上述加热部的相对的移动方向在反方向上流动的气流来进行上述加热处理。 |
申请公布号 |
CN100385610C |
申请公布日期 |
2008.04.30 |
申请号 |
CN200310100255.7 |
申请日期 |
2003.10.13 |
申请人 |
株式会社东芝 |
发明人 |
川野健二;伊藤信一;盐原英志 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01) |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 |
代理人 |
陈海红;段承恩 |
主权项 |
1.一种衬底处理方法,其特征在于:包含:在衬底上形成化学放大型抗蚀剂膜的工序;对上述化学放大型抗蚀剂膜照射能量线以形成潜像的工序;以及对上述化学放大型抗蚀剂膜进行加热处理的工序,一边使加热上述化学放大型抗蚀剂膜的加热部和上述衬底相对地移动,一边在上述加热部下表面与上述化学放大型抗蚀剂膜之间形成相对于上述加热部的相对的移动方向在反方向上流动的气流来进行上述加热处理。 |
地址 |
日本东京都 |