| 发明名称 | 监控处理室中薄膜沉积的方法及设备 | ||
| 摘要 | 一种在处理室中监控室壁上薄膜沉积的设备。该设备包括提供在室壁上的表面声波器件。启动表面声波器件，产生共振频率，并且检测所产生的共振频率，确定是否达到室壁上薄膜的临界厚度，其振频率的降低量与室壁薄膜的厚度成正比。当检测的共振频率落在第一预定范围内时，清洗处理室。 | ||
| 申请公布号 | CN100385611C | 申请公布日期 | 2008.04.30 |
| 申请号 | CN03812181.6 | 申请日期 | 2003.05.29 |
| 申请人 | 东京电子株式会社 | 发明人 | 吉姆·N·弗德沃尔特;埃里克·J·斯特朗;史蒂文·T·芬克 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1.一种监控处理室内室壁上薄膜沉积的设备，所述设备包含：适于被提供在紧邻室壁处的用于检测薄膜厚度的装置；以及处理器，配置为从所述用于检测薄膜厚度的装置接收薄膜厚度信息，并确定是否已经达到室壁上薄膜的临界厚度。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||