发明名称 |
一种用于套刻精度的透镜成像系统及其反馈和校准方法 |
摘要 |
本发明公开了一种用于套刻精度的透镜成像系统及其反馈和校准方法,该系统包括:主透镜、傅立叶平面附近的45度角度分束板、45度角度反光镜、投影透镜、焦平面空间像收集探测器阵列、附属照明光源、和计算模块;该方法首先将掩膜板平面上的套刻标记通过光刻机投影透镜投射到硅片表面,再通过硅片表面反射回来,并且通过所述45度角度分束板成像到所述焦平面空间像探测器阵列上,同时将硅片平台上的套刻标记的像通过所述45度角度分束板成像到所述焦平面空间像探测器阵列上;然后由计算模块将上述两组像的中心进行比较,并计算得出套刻精度数据。本发明可以提高套刻精度的反馈效率,降低产品的返工率。 |
申请公布号 |
CN101169591A |
申请公布日期 |
2008.04.30 |
申请号 |
CN200610117425.6 |
申请日期 |
2006.10.23 |
申请人 |
上海华虹NEC电子有限公司 |
发明人 |
蒋运涛;伍强 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
上海浦一知识产权代理有限公司 |
代理人 |
丁纪铁;李隽松 |
主权项 |
1.一种用于套刻精度测量的透镜成像系统,其特征在于,包括:主透镜、傅立叶平面附近的分束板、反光镜、投影透镜、焦平面空间像收集探测器阵列、附属照明光源和计算模块,所述透镜成像系统可用于扫描式光刻机或非扫描式光刻机;所述透镜成像系统具有自我校准的能力或将在其他设备上测量硅片的测量数据用于校准;所述分束板与通过所述主透镜进入所述透镜成像系统的光路呈45度夹角,且所述分束板的反射面朝向被光刻器件的一侧;在经过所述分束板反射后与光刻光路相垂直的光路上设置有所述反射镜,所述反射镜的法线与所述分束板的法线相平行,且所述反射镜的反射面朝向所述分束板一侧;在经过所述反射镜反射之后的光路上设置有所述焦平面空间像收集探测器阵列。 |
地址 |
201206上海市浦东新区川桥路1188号 |