发明名称 |
横向PNP型三极管结构及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种横向PNP型三极管及其制造方法,在P型发射区和N型埋层之间设置二氧化硅埋层;其制造方法是在N型外延层生长完成之后,紧接着在N型外延层中局部注入氧离子,注入氧离子的位置在N型埋层和将要形成的P型发射区之间,注入的氧离子在后续的热过程中可使得N型埋层和P型发射区之间形成局部二氧化硅埋层。本发明所提供的方法制造的横向PNP型三极管,可以提高集电极的收集效率和三极管的电流增益。 |
申请公布号 |
CN101170128A |
申请公布日期 |
2008.04.30 |
申请号 |
CN200610117428.X |
申请日期 |
2006.10.23 |
申请人 |
上海华虹NEC电子有限公司 |
发明人 |
刘俊文 |
分类号 |
H01L29/735(2006.01);H01L21/331(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/735(2006.01) |
代理机构 |
上海浦一知识产权代理有限公司 |
代理人 |
顾继光 |
主权项 |
1.一种横向PNP型三极管,包括P型衬底、P型衬底上的N型埋层、N型外延层中的P型发射区、P型的集电区和N型基区,N型基区和P型集电区之间有场氧隔离区,其特征是,在P型发射区和N型埋层之间设置二氧化硅埋层。 |
地址 |
201206上海市浦东新区川桥路1188号 |