发明名称 横向PNP型三极管结构及其制造方法
摘要 本发明公开了一种横向PNP型三极管及其制造方法,在P型发射区和N型埋层之间设置二氧化硅埋层;其制造方法是在N型外延层生长完成之后,紧接着在N型外延层中局部注入氧离子,注入氧离子的位置在N型埋层和将要形成的P型发射区之间,注入的氧离子在后续的热过程中可使得N型埋层和P型发射区之间形成局部二氧化硅埋层。本发明所提供的方法制造的横向PNP型三极管,可以提高集电极的收集效率和三极管的电流增益。
申请公布号 CN101170128A 申请公布日期 2008.04.30
申请号 CN200610117428.X 申请日期 2006.10.23
申请人 上海华虹NEC电子有限公司 发明人 刘俊文
分类号 H01L29/735(2006.01);H01L21/331(2006.01) 主分类号 H01L29/735(2006.01)
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人 顾继光
主权项 1.一种横向PNP型三极管,包括P型衬底、P型衬底上的N型埋层、N型外延层中的P型发射区、P型的集电区和N型基区,N型基区和P型集电区之间有场氧隔离区,其特征是,在P型发射区和N型埋层之间设置二氧化硅埋层。
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