| 摘要 |
<p>La présente invention est relative à une composition photoprotectrice à usage topique comprenant dans un support cosmétiquement acceptable :
(a) au moins un filtre UV du type dérivé du dibenzoylméthane et
(b) au moins une huile présentant dans sa structure au moins un motif amide de formule (I) suivante :
<Chemistry id="chema01" num="0001"><Image id="ia01" he="26" wi="114" file="IMGA0001.TIF" imgContent="chem" imgFormat="TIFF" /></Chemistry>
dans laquelle :
- le radical R<Sub>1</Sub> représente un radical hydrocarboné monovalent, saturé ou insaturé, aliphatique, cycloaliphatique ou cyclique, éventuellement fonctionnalisé, contenant de 2 à 30 atomes de carbone, de préférence de 2 à 22 atomes de carbone, bornes incluses ;
- les radicaux R<Sub>2</Sub>, R<Sub>3</Sub> et R<Sub>4</Sub> qui peuvent être identiques ou différents, représentent l'hydrogène ou des radicaux hydrocarbonés monovalents, saturés ou insaturés, aliphatiques, cycloaliphatiques ou cycliques, éventuellement fonctionnalisés, contenant de 1 à 30 atomes de carbone, de préférence de 1 à 22 atomes de carbone, bornes incluses;
- m est 1 ou 2 ;
(c) au moins un composé susceptible d'accepter l'énergie de niveau excité triplet dudit dérivé de dibenzoylméthane.</p><p>La présente invention est également relative à l'utilisation de l'association d'une huile présentant dans sa structure au moins un motif amide et d'un composé susceptible d'accepter l'énergie de niveau excité triplet d'un dérivé de dibenzoylméthane telle que définie précédemment dans une composition cosmétique ou dermatologique comprenant au moins un dérivé du dibenzoylméthane dans le but de d'améliorer la stabilité vis-à-vis des rayons UV dudit dérivé de dibenzoylméthane.</p> |
