首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Verfahren zur Herstellung von Kollektorbereichen einer Transistorstruktur
摘要
申请公布号 DE10250204(B4) 申请公布日期 2008.04.30
申请号 DE20021050204 申请日期 2002.10.28
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 STENGL, REINHARD;MEISTER, THOMAS;SCHAEFER, HERBERT;BOECK, JOSEF;SECK, MARTIN;LACHNER, RUDOLF
分类号 H01L21/8222;H01L21/331;H01L27/082;H01L29/08;H01L29/732 主分类号 H01L21/8222
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com