| 发明名称 | 固体摄像装置的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种可以提高受光度的固体摄像装置的制造方法。本发明的固体摄像装置的制造方法具有：在受光区域L与非受光区域B上形成绝缘膜(21)的工序；及在受光区域L上的绝缘膜上形成透镜形成用的掩模图案(23)，在非受光区域(B)上的绝缘膜(21)上形成透镜形成用的伪掩模图案(23d)的工序；将掩模图案(23)与伪掩模图案(23d)作为掩模，对绝缘膜(21)进行蚀刻，以在绝缘膜(21)上形成多个凸起部的工序；在绝缘膜(21)上形成第一透镜膜(24)的工序；在第一透镜膜(24)上形成比其蚀刻率低的平坦化膜(25)的工序；对第一透镜膜(24)及平坦化膜(25)进行深腐蚀的工序；和在第一透镜膜(24)上形成第二透镜膜(26)的工序。 | ||
| 申请公布号 | CN100383977C | 申请公布日期 | 2008.04.23 |
| 申请号 | CN200410069885.7 | 申请日期 | 2004.07.15 |
| 申请人 | 三洋电机株式会社 | 发明人 | 富泽勇;甲斐诚二;八木巧司 |
| 分类号 | H01L27/14(2006.01);H04N5/335(2006.01) | 主分类号 | H01L27/14(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1.一种固体摄像装置的制造方法，其中该装置具有配置多个像素而成的受光区域及与该受光区域相邻的非受光区域，其特征在于，具有：在所述受光区域与所述非受光区域上形成绝缘膜的工序；在所述受光区域上的绝缘膜上形成透镜形成用的掩模图案，在所述非受光区域上的绝缘膜上形成透镜形成用的伪掩模图案的工序；将所述掩模图案与伪掩模图案作为掩模，对所述绝缘膜进行蚀刻，以在所述绝缘膜上形成多个凸起部的工序；在所述绝缘膜上形成第一透镜膜的工序；在所述第一透镜膜上形成比其蚀刻率低的平坦化膜的工序；和对所述第一透镜膜及所述平坦化膜进行深腐蚀的工序。 | ||
| 地址 | 日本国大阪府 | ||