| 发明名称 | 高速可变衰减器 | ||
| 摘要 | 一种系统和方法提供高速可变衰减器。所述衰减器可以用在光刻设备中以控制用于修正伴随最初的辐射脉冲的辐射剂量的一个或多个修正脉冲中的辐射强度。 | ||
| 申请公布号 | CN101165533A | 申请公布日期 | 2008.04.23 |
| 申请号 | CN200710162679.4 | 申请日期 | 2007.10.16 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 | 发明人 | 奥斯卡·弗朗西斯科斯·乔兹弗斯·诺德曼;爱斯汀·L·克洛特斯尔;亨瑞·约翰尼斯·彼查斯·文克;条尼斯·科尼利厄斯·万登道尔;丹尼尔·派瑞兹·卡乐奥 |
| 分类号 | G02B26/08(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/00(2006.01);G05D25/00(2006.01) | 主分类号 | G02B26/08(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王新华 |
| 主权项 | 1.一种适用于光刻设备中的可变衰减器，所述可变衰减器被构造用于响应输入控制信号对其输入辐射束的透射水平进行调节，所述输入控制信号代表可变衰减器对辐射束的所需透射水平，包括：第一和第二半透反射器，所述第一和第二半透反射器大致相互平行地设置，并使得辐射束连续地通过第一和第二半透反射器；以及致动器系统，所述致动器系统被构造用于响应输入控制信号来控制第一和第二半透反射器的间隔。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||