发明名称 |
磁记录介质的制造方法及其制造装置 |
摘要 |
提供一种能高效率制造可以阻止分割记录要素的加工形状偏差、磁特性劣化并具有良好磁特性的磁记录介质的制造方法。用离子束蚀刻作为连续记录层(20)的干蚀刻的技术。并且在连续记录层(20)的干蚀刻前除去抗蚀剂层(26)。用金刚石类碳作为被覆连续记录层的第一掩模层的材料。 |
申请公布号 |
CN100383859C |
申请公布日期 |
2008.04.23 |
申请号 |
CN200480001565.6 |
申请日期 |
2004.07.28 |
申请人 |
TDK股份有限公司 |
发明人 |
服部一博;高井充;大川秀一 |
分类号 |
G11B5/84(2006.01);G11B5/855(2006.01) |
主分类号 |
G11B5/84(2006.01) |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
高龙鑫;王玉双 |
主权项 |
1.一种磁记录介质的制造方法,其特征在于,包括如下工序:(1)将在基板表面上顺次形成连续记录层、掩模层和抗蚀剂层构成的被加工体的上述抗蚀剂层加工成规定的图形形状的抗蚀剂层加工工序;(2)根据在工序(1)中被加工后的抗蚀剂层的图形形状将上述掩模层加工成图形形状的掩模层加工工序;(3)除去残存在上述掩模层上的抗蚀剂层的抗蚀剂层除去工序;(4)根据在工序(2)中被加工后的掩模层的图形形状,通过干蚀刻将上述连续记录层加工成图形形状并分割成多个分割记录要素的连续记录层加工工序,上述掩模层包含在工序(4)中的蚀刻速率比上述连续记录层低的第1掩模层、和在工序(3)中的蚀刻速率比上述第1掩模层低并且配置在上述第1掩模层与上述抗蚀剂层之间的第2掩模层,工序(2)包括如下工序:(2A)根据在工序(1)中被加工后的抗蚀剂层的图形形状对上述第2掩模层进行蚀刻而加工成图形形状的第2掩模层加工工序;(2B)根据在工序(2A)中被加工后的第2掩模层的图形形状将上述第1掩模层加工成图形形状的第1掩模层加工工序,在工序(4)之前进行工序(3)。 |
地址 |
日本东京都 |