曝光方法和工具

摘要

一种向基板上形成规则重复图案的方法，包括步骤：将抗蚀剂涂敷在待处理基板的表面上；在所涂敷的抗蚀剂上压印通过将其暴露于紫外(UV)光束而形成的图案，致使该紫外光穿过描绘该图案的合适掩模并随后穿过聚焦透镜到该抗蚀剂上，从而引起该抗蚀剂中的化学变化，其中该化学变化使得该抗蚀剂更多或更少溶解于合适的显影溶液；该压印步骤实施如下：在重复的一系列离散曝光步骤中，使用仅代表基板总面积的小区域且相对于该光束和透镜保持静止的掩模，并在每个步骤使用紫外辐射的单一短脉冲来照射该掩模，该辐射脉冲在该基板上具有低于烧蚀该抗蚀剂的阈值的能量密度；以及通过沿着与将形成于该基板上的结构的一条轴平行的方向移动该基板，并在该基板的移动距离等效于该基板上重复图案的完整周期数的时刻激活该脉冲掩模照射光源，由此在基板表面的完整区域上重复该一系列离散曝光步骤，从而形成包括多个像素的完整结构；使用显影剂处理该曝光的抗蚀剂以致使曝光区域(对于正抗蚀剂)或未曝光区域(对于负抗蚀剂)溶解，且随后通过显影剂溶液将其清洗掉以展现由剩余抗蚀剂形成的图案；使用除去无抗蚀剂区域内的基板的合适化学蚀刻溶液、反应等离子体、或者甚至研磨粒子来处理该基板；以及使用合适溶剂从基板除去剩余抗蚀剂以留下成品的图案化基板。本发明还包括用于实施前述方法的扫描曝光工具。

主权项

1.一种向基板上形成规则重复图案的方法，包括步骤：1)将抗蚀剂涂敷在待处理基板的表面上；2)在所涂敷的抗蚀剂上压印通过将所述抗蚀剂暴露于紫外(UV)光束而形成的图案，致使该紫外光束穿过描绘该图案的合适掩模并随后穿过聚焦透镜到该抗蚀剂上，从而引起该抗蚀剂中的化学变化，其中该化学变化使得该抗蚀剂更多或更少溶解于合适的显影溶液；该压印步骤实施如下：(i)在重复的一系列离散曝光步骤中，使用仅代表基板总面积的小区域且相对于该光束和透镜保持静止的掩模，并在每个步骤使用紫外辐射的单一短脉冲来照射该掩模，该辐射脉冲在该基板上具有低于烧蚀该抗蚀剂的阈值的能量密度；以及(ii)通过沿着与将形成于该基板上的结构的一条轴平行的方向移动该基板，并在该基板的移动距离等效于该基板上重复图案的完整周期数的时刻激活该脉冲掩模照射光源，由此在基板表面的完整区域上重复该一系列离散曝光步骤，从而形成包括多个像素的完整结构；3)使用显影剂处理该曝光的抗蚀剂以致使曝光区域(对于正抗蚀剂)或未曝光区域(对于负抗蚀剂)溶解，且随后通过显影剂溶液将其清洗掉以展现由剩余抗蚀剂形成的图案；4)使用除去无抗蚀剂区域内的基板的合适化学蚀刻溶液、反应等离子体、或者研磨粒子来处理该基板；以及5)使用合适溶剂从基板除去剩余抗蚀剂以留下成品的图案化基板。