| 主权项 |
1.一种气体分离装置,系由含有复数特定气体之被 处理气体中,将各特定气体予以分离的气体分离装 置,其特征为, 含有充填不同充填材料的复数管柱,并将此等管柱 以串联连接下,令被处理气体依序通过2种以上的 充填材料,且由被处理气体中将3种以上之各特定 气体予以层析分离。 2.一种气体分离装置,系由含有复数特定气体之被 处理气体中,将各特定气体予以分离的气体分离装 置,其特征为, 含有充填不同充填材料的管柱,令被处理气体通过 管柱内之2种以上的充填材料,并由被处理气体中 将3种以上之各特定气体予以层析分离。 3.如申请专利范围第1或2项之气体分离装置,其中, 该特定气体系由半导体制造步骤中所排出的PFC气 体,该被处理气体系含有氮气做为其他气体。 4.如申请专利范围第3项之气体分离装置,其中,该 特定气体系含有NF3、CF4、C2F6,该充填材料系含有 沸石及活性碳。 5.如申请专利范围第4项之气体分离装置,其中,该 沸石系有效细孔径为0.8nm以上之沸石。 图式简单说明: 图1为表示实施形态之构成图。 图2为表示使用复数管柱之层析分离装置的构成图 。 图3为表示第一管柱出口之气体流出状态图。 图4为表示第二管柱出口之气体流出状态图。 图5为表示使用复数管柱之层析分离装置的其他构 成图。 图6为表示图5之管柱出口之气体流出状态图。 图7为表示试验装置之构成图。 图8为表示试验装置之其他构成图。 |
