| 主权项 |
1.一种用于制作倾斜反射突块之光罩,其包括: 复数图案,由透光部份与遮光部份并接而成; 其中,该透光部份或遮光部份为一块状区域,该块 状区域一侧边于光罩平面方向上具有复数突起。 2.如申请专利范围第1项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该块状区域为多边形。 3.如申请专利范围第2项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该多边形为矩形。 4.如申请专利范围第3项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该多边形至少一侧边平整。 5.如申请专利范围第3项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该多边形至少一侧边之突起间隔 或长度小于其他侧边之突起间隔或长度。 6.如申请专利范围第1项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该块状区域为椭圆形或圆形。 7.如申请专利范围第1项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该突起为矩形。 8.如申请专利范围第7项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该复数突起宽度、长度相等及间 隔分别相等。 9.如申请专利范围第7项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该复数突起宽度及长度分别相等 ,其间隔于该侧边中部小,而于该侧边二侧大。 10.如申请专利范围第7项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该复数突起长度及间隔分别相等 ,其宽度于该侧边中部大,而于该侧边二侧小。 11.如申请专利范围第7项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该复数突起宽度及间隔分别相等 ,其长度于该侧边中部小,而于该侧边二侧大。 12.如申请专利范围第7项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该复数突起间隔或宽度为1-3m, 长度为0-5m。 13.如申请专利范围第2项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该多边形为三角形。 14.如申请专利范围第2项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该多边形为六边形。 15.如申请专利范围第1项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该块状区域之遮光部份为不规则 形状。 16.如申请专利范围第1项所述之用于制作倾斜反射 突块之光罩,其中该复数突起为不规则排列。 17.一种用于制作倾斜反射突块之光罩,其包括: 复数图案,由透光部份与遮光部份并接而成; 其中,该透光部份或遮光部份为一块状区域,该块 状区域为一体成型结构,其一侧边之遮光能力较该 遮光部份其他部份遮光能力弱。 18.如申请专利范围第17项所述之用于制作倾斜反 射突块之光罩,其中遮光能力较弱之该侧边具有复 数透光点。 19.如申请专利范围第17项所述之用于制作倾斜反 射突块之光罩,其中遮光能力较弱之该侧边由半透 明材料制成。 20.如申请专利范围第19项所述之用于制作倾斜反 射突块之光罩,其中半透明材料之透明度自透光部 份向遮光部份方向逐渐降低。 21.一种用于制作倾斜反射突块之光罩,其包括: 复数图案,由透光部份与遮光部份并接而成; 其中,该透光部份或遮光部份为一块状区域,该块 状区域为一体成型结构,其一侧边具复数透光图案 。 22.如申请专利范围第21项所述之用于制作倾斜反 射突块之光罩,其中该透光图案为圆形。 23.如申请专利范围第21项所述之用于制作倾斜反 射突块之光罩,其中该复数透光图案大小一致,其 数量于该侧边中部少,而于该侧边二侧多。 24.如申请专利范围第21项所述之用于制作倾斜反 射突块之光罩,其中该圆形透光图案之直径为1-5 m。 25.一种用于制作倾斜反射突块之光罩,其包括: 复数图案,包括: 一第一区域,具有第一遮光能力; 一第二区域,具有第二遮光能力,且其透明度自一 侧向对侧逐渐降低;及 一第三区域,具有第三遮光能力,该第二区域位于 该第一区域与第三区域之间,并与该第一区域与第 三区域一体成型,该三区域之遮光能力相异,并沿 该三区域排列方向线性变化,。 26.如申请专利范围第25项所述之用于制作倾斜反 射突块之光罩,其中该第一区域遮光能力最大,该 第三区域为透明区域。 27.如申请专利范围第26项所述之用于制作倾斜反 射突块之光罩,其中该第二区域为半透明区域。 28.如申请专利范围第26项所述之用于制作倾斜反 射突块之光罩,其中该第二区域具复数透光图案。 29.一种采用光罩制作倾斜反射突块之制程,该光罩 包括复数图案,每一图案包括复数连续、遮光能力 线性变化且透明度自一侧向对侧逐渐降低之区域, 该制程包括: 提供一基底; 在该基底上形成一感光材料层; 采用上述光罩对该感光材料层进行曝光; 显影,形成与该光罩之图案对应之突块雏形; 平滑该突块雏形,以形成具有一倾斜角度之弧形反 射突块。 30.如申请专利范围第29项所述之用于制作倾斜反 射突块之制程,其中该突块雏形对应光罩图案之突 起部份厚度较其他部份小。 31.如申请专利范围第30项所述之用于制作倾斜反 射突块之制程,其中在平滑突块雏形步骤中,系利 用烘烤方法使突块雏形熔化而再流动以平滑突块 雏形。 32.如申请专利范围第31项所述之用于制作倾斜反 射突块之制程,其中所形成之具有一倾斜角度之反 射突块具一倾斜、平滑之弧形表面,该弧形表面对 应于光罩图案之突起部份及其邻近部份。 图式简单说明: 第一图系一先前技术用于液晶显示装置之反射突 块之光线反射率与测量角度关系图。 第二图系另一先前技术用于液晶显示装置之反射 突块之光线反射率与测量角度关系图。 第三图系又一先前技术用于液晶显示装置之反射 突块之光线反射率与测量角度关系图。 第四图系一先前技术用于制作倾斜反射突块之光 罩平面示意图。 第五图系采用第四图光罩对感光材料层之曝光示 意图。 第六图系第五图曝光且显影后所制得之反射突块 雏形之侧面示意图。 第七图系第六图中制得之反射突块雏形经再流动 步骤所形成之反射突块立体示意图。 第八图系本发明第一实施方式用于制作倾斜反射 突块之光罩之图案示意图。 第九图系本发明制作倾斜反射突块之制程之采用 第八图所示光罩对感光材料层之曝光示意图。 第十图系第九图曝光且显影后所制得之反射突块 雏形之侧面示意图。 第十一图系第十图中制得之反射突块雏形经再流 动步骤所形成之反射突块立体示意图。 第十二图系本发明第二实施方式用于制作倾斜反 射突块之光罩之图案示意图。 第十三图系本发明第三实施方式用于制作倾斜反 射突块之光罩之图案示意图。 第十四图系采用第十三图之光罩曝光所制得之反 射突块立体示意图。 第十五图系本发明第四实施方式用于制作倾斜反 射突块之光罩之图案示意图。 第十六图系本发明第五实施方式用于制作倾斜反 射突块之光罩之图案示意图。 第十七图系本发明第六实施方式用于制作倾斜反 射突块之罩之图案示意图。 |
