发明名称 液滴喷出装置
摘要 本发明之液滴喷出装置具备喷出部,其将包含含有功能性材料之液状体之液滴朝向对象物喷出。喷出部具有穿透性构件。雷射照射部将雷射光照射于穿透性构件。雷射光藉由前述穿透性构件分为第一雷射光与第二雷射光。前述第一雷射光系以可照射前述液滴着落于前述对象物上之位置或其附近之方式,穿透前述穿透性构件。前述第二雷射光系照射与前述第一雷射光之照射位置不同之对象物上之位置。因此,可将雷射光精度良好地照射于液滴,进行有效率的乾燥、烘烤。
申请公布号 TWI295967 申请公布日期 2008.04.21
申请号 TW095110594 申请日期 2006.03.27
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 岩田裕二
分类号 B41J2/01(2006.01);B41J2/44(2006.01) 主分类号 B41J2/01(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种液滴喷出装置(20),该装置(20)包含: 喷出部(30),其系将包含含有功能性材料之液状体 之液滴朝向对象物(2)喷出者,且该喷出部(30)包含: 压力室(32c),其储存前述液状体;加压部(32b、33a),其 施加压力于该压力室(32c),使前述液滴喷出;及穿透 性构件(31);及 雷射照射部(L),其系将雷射光照射于前述穿透性构 件(31)者,且前述雷射光系以前述穿透性构件(31)分 为第1雷射光与第2雷射光,前述第1雷射光系以可照 射前述液滴着落于前述对象物(2)上之位置或其附 近之方式,穿透前述穿透性构件(31);前述第2雷射光 系照射与前述第1雷射光之照射位置相异之对象物 (2)上之位置。 2.如请求项1之液滴喷出装置(20),其中 前述第1雷射光系照射于刚着落于前述对象物(2)上 后之液滴; 前述第2雷射光系照射于照射前述第1雷射光后之 液滴。 3.如请求项1之液滴喷出装置(20),其中前述穿透性 构件(31)系以前述第2雷射光之量比前述第1雷射光 之量多之方式,使前述雷射光分支。 4.如请求项1之液滴喷出装置(20),其中 前述穿透性构件(31)具备包含半穿透性之反射膜(31 a)。 5.如请求项4之液滴喷出装置(20),其中 前述第2雷射光系由前述反射膜(31a)所反射,第2雷 射光之量比穿透前述反射膜(31a)之前述第1雷射光 之量多。 6.如请求项1之液滴喷出装置(20),其中 前述穿透性构件(31)系第1基板(31),前述第2雷射光 系以前述第1基板(31)反射; 前述喷出部进一步具备第2基板(32),前述第1基板(31 )与第2基板(32)区划前述压力室(32)。 7.如请求项1之液滴喷出装置(20),其中 前述装置(20)进一步具备变化部(70),其使前述雷射 照射部(L)之方向对前述喷出部(30)变化。 8.如请求项1至7中任一项之液滴喷出装置(20),其中 进一步具备区划前述压力室(32)用之基板(32),该基 板包含面对前述压力室(32)之可挠部(32b)。 9.如请求项8之液滴喷出装置(20),其中 前述加压部(32b、33a)包含:前述可挠部(32b)及对向 于前述可挠部(32b)之电极(33a),来自前述电极(33a)之 静电力使前述可挠部(32b)挠曲。 10.如请求项1至7中任一项之液滴喷出装置(20),其中 前述第1雷射光系对前述对象物(2)之表面倾斜照射 。 11.一种液滴喷出装置(20),该装置(20)包含: 喷出部(30),其系将包含含有功能性材料之液状体 之液滴朝向对象物(2)喷出者,且该喷出部(30)包含 穿透性构件(31);及 雷射照射部(L),其系照射雷射光于前述穿透性构件 (31)者,且前述雷射光系以前述穿透性构件(31)分为 第1雷射光与第2雷射光,前述第1雷射光系照射于刚 着落于前述对象物(2)上后之液滴,前述第2雷射光 系照射于照射前述第1雷射光后之液滴。 图式简单说明: 图1系关于将本发明具体化之一实施型态之液晶显 示装置之液晶显示模组之正面图。 图2系形成于图1之液晶显示模组之背面之点图案 之图。 图3系图2之点图案之侧面图。 图4系图2之点图案之说明图。 图5系制造图2之点图案用之液滴喷出装置之要部 立体图。 图6系组装入图5之液滴喷出装置之喷出头之立体 图。 图7系图6之喷出头之要部剖面图。 图8系图6之喷出头之分解立体图。 图9系图5之液滴喷出装置之电性区块电路图。 图10系表示图7之喷出头及半导体雷射之驱动时序 之时序图。
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