| 主权项 |
1.一种单环双流道之炉头结构,其系一炉头系为单 环一体形式,分别于其靠近环外侧、环内侧区域一 体成形一外环部、一内环部,该炉头一侧往外一体 成形一内具外流道之第一进气管、一具内流道之 第二进气管;其中该外、内环部布设数出火孔,并 且该外、内环部为中空而各形成一外环道、一内 环道,该炉头于该外环道、该内环道之间形成一分 隔壁予以区隔,形成该外环道、该内环道分别与该 外流道、该内流道相通。 2.如申请专利范围第1项所述之单环双流道之炉头 结构,所述炉头之外环部靠外侧以及内环部靠内侧 均系呈斜面,各于其斜面上布设数出火孔,外、内 环部各于邻近出火孔处为引孔,炉头于内、外环部 上设置一与引孔保持一引流区之空间的隔引盘。 3.如申请专利范围第2项所述之单环双流道之炉头 结构,所述炉头在位于外环部近内环部交界处形成 一环条状的突起的支持部,隔引盘为环盘状,具有 一遮环、一位置高于遮环的帽檐、以及一纵向连 伸于遮环顶缘与帽檐底缘间的连壁,连壁连伸于遮 环与帽檐而使两者形成高度差距,遮环底侧靠抵于 支持部之顶侧,连壁外侧面则靠触于支持部之内侧 面,使遮环与内环部之引孔间,以及帽檐与外环部 之引孔间各形成引流区的空间。 4.如申请专利范围第2项所述之单环双流道之炉头 结构,所述炉头在位于内环部近外环部交界处形成 一环条状的突起的支持部,隔引盘隔引盘为环盘状 ,具有一遮环、一位置高于遮环的帽檐、以及一纵 向连伸于遮环顶缘与帽檐底缘间的连壁,连壁连伸 于遮环与帽檐而使两者形成高度差距,遮环底侧靠 抵于支持部之顶侧,使帽檐与外环部的引孔之间、 以及遮环则与内环部的引孔之间各形成引流区。 5.如申请专利范围第2项所述之单环双流道之炉头 结构,所述隔引盘具一呈实心锥环状的遮环,外侧 系水平延伸一环帽檐,遮环底侧朝炉头突出环伸一 环支持部,藉以遮环底侧之支持部置于内环部顶侧 ,使帽檐与其对应的引孔之间形成引流区,遮环能 与其对应的引孔之间形成引流区。 6.如申请专利范围第2项所述之单环双流道之炉头 结构,所述隔引盘为环盘状,具有一遮环、一位置 高于遮环的帽檐、以及一纵向连伸于遮环顶缘与 帽檐底缘间的连壁,连壁连伸于遮环与帽檐而使两 者形成高度差距,连壁底侧端角处形成一环断面呈 倒L形缺口的缺环,藉以缺环置设于外环部近内环 部端缘上,以于帽檐与其对应的引孔之间形成引流 区,遮环与其对应的引孔之间也形成引流区。 7.如申请专利范围第2项所述之单环双流道之炉头 结构,所述隔引盘为环盘状,具有一呈环形之连壁 以及一环自连壁外顶侧水平延伸之遮环,连壁底侧 端角处形成一环断面呈倒L形缺口的缺环,藉以缺 环置设于外环部近内环部端缘上,以于帽檐与其对 应的引孔之间形成引流区,遮环与其对应的引孔之 间也形成引流区。 图式简单说明: 第1图系本创作一较佳实施例之立体图。 第2图系本创作一较佳实施例之立体元件分解图。 第3图系本创作一较佳实施例之底视平面图。 第4图系本创作一较佳实施例之组合剖视图。 第5图系本创作一较佳实施例之另一剖面方向的组 合剖视图。 第6图系本创作一较佳实施例之部份放大剖面图。 第7图系本创作第二较佳实施例之部份放大剖面图 。 第8图系本创作第三较佳实施例之部份放大剖面图 。 第9图系本创作第四较佳实施例之部份放大剖面图 。 第10图系本创作第五较佳实施例之部份放大剖面 图。 第11图系本创作第六较佳实施例之部份放大剖面 图。 |
