发明名称 照射产生器件,微影装置,器件制造方法及藉此制造之器件
摘要 本发明揭示一种用于基于一放电来产生照射源之器件,其包括一阴极与一阳极。该阴极与阳极材料系以流体状态供应。使用该器件时,该材料形成一电浆捏缩(Pinch)。视需要,可使用喷嘴来供应该材料。该阴极及/或阳极可形成一平坦的表面。该材料之轨迹可伸长。可使用一雷射来使得更容易放电。可将该雷射引导于阴极或阳极上或位于该阳极与阴极之间的一单独材料上。
申请公布号 TWI295821 申请公布日期 2008.04.11
申请号 TW094123386 申请日期 2005.07.11
申请人 ASML公司 发明人 康士坦汀 尼可拉威屈 卡士李;NIKOLAEVITCH;法拉帝莫 维塔拉维屈 依法诺;依弗吉尼 迪米屈维屈 可拉伯;奇维 乔治维屈 祖卡维士维李;GEORGIEVITCH;罗伯 罗福维屈 卡雅祖;法拉帝莫 米亥欧维屈 科维桑;MIHAILOVITCH
分类号 H01L21/3065(2006.01) 主分类号 H01L21/3065(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种用于产生照射之器件,其包含: 一第一喷嘴,其系配置成提供一第一材料之一第一 喷注,其中该第一材料之该第一喷注系配置成充当 一第一电极; 一第二电极;及 一点火源,其系配置成在该第一电极与该第二电极 之间触发一放电。 2.如请求项1之器件,其中该点火源系配置成藉由该 第一材料之蒸发来触发该放电。 3.如请求项1之器件,其进一步包含: 一第二喷嘴,其系配置成提供一第二材料之一第二 喷注,该第二喷注系配置成充当该第二电极,其中 该点火源系配置成藉由该第一材料与该第二材料 中至少一者之蒸发来触发该放电。 4.如请求项1之器件,其进一步包含: 一第二喷嘴,其系配置成提供一第二材料之一第二 喷注,该第二喷注系配置成充当该第二电极;及 一第三材料之一物质,其中该点火源系配置成藉由 该第三材料之蒸发来触发该放电。 5.如请求项1之器件,其中该第一喷注之长度大约为 3 cm至30 cm而厚度大约为0.1 mm至1 mm。 6.如请求项1之器件,其中该点火源系配置成产生一 光束,该光束包含一照射光束、一粒子光束及其任 何组合之至少一者。 7.如请求项1之器件,其中该第一喷嘴系配置成朝沿 一直线轨迹之一方向提供该第一材料。 8.如请求项7之器件,其进一步包含: 至少另一喷嘴,其系配置成提供至少另一喷注,该 第一喷注与该至少另一喷注系配置成提供一实质 上平坦形状的电极。 9.如请求项1之器件,其中该第一材料包含锡、铟、 锂、汞、铋、锑、铅及其任何组合之至少一者。 10.一种微影装置,其包含: 一照射产生器,其包含:一第一喷嘴,其系配置成提 供一第一材料之一第一喷注,其中该第一材料之该 第一喷注系配置成充当一第一电极;一第二电极; 及一点火源,其系配置成在该第一电极与该第二电 极之间触发一放电; 一照明系统,其系配置成调节来自该照射产生器之 一照射光束; 一支撑物,其系配置成支撑一图案化器件,该图案 化器件系配置成赋予该照射光束一断面图案; 一基板台,其系配置成固持一基板;及 一投影系统,其系配置成将该已图案化的光束投影 至该基板之一目标部分上。 11.如请求项10之装置,其中该点火源系配置成藉由 该第一材料之蒸发来触发该放电。 12.如请求项10之装置,其进一步包含: 一第二喷嘴,其系配置成提供一第二材料之一第二 喷注,该第二喷注系配置成充当该第二电极,其中 该点火源系配置成藉由该第一材料与该第二材料 之至少一者之蒸发来触发该放电。 13.如请求项10之装置,其进一步包含: 一第二喷嘴,其系配置成提供一第二材料之一第二 喷注,该第二喷注系配置成充当该第二电极;及 一第三材料之一物质,其中该点火源系配置成藉由 该第三材料之蒸发来触发该放电。 14.如请求项10之装置,其中该第一喷注之长度大约 为3 cm至30 cm而厚度大约为0.1 mm至1 mm。 15.如请求项10之器件,其中该点火源系配置成产生 一光束,该光束包含一照射光束、一粒子光束及其 任何组合之至少一者。 16.如请求项10之装置,其中该第一喷嘴系配置成朝 沿一直线轨迹之一方向提供该第一材料。 17.如请求项16之装置,其进一步包含: 至少另一喷嘴,其系配置成提供至少另一喷注,该 第一喷注与该至少另一喷注系配置成提供一实质 上平坦形状的电极。 18.如请求项10之装置,其中该第一材料包含锡、铟 、锂、汞、铋、锑、铅及其任何组合之至少一者 。 19.一种器件制造方法,其包含: 提供一第一材料之一第一喷注,其中该第一材料之 该第一喷注系配置成充当一第一电极; 在该第一电极与一第二电极之间触发一放电以产 生一照射光束; 采用该照射光束之一断面上的图案来图案化该照 射光束;及 将该已图案化的照射光束投影到一基板之一目标 部分上。 20.一种藉由请求项19之方法来制造之器件。 图式简单说明: 图1说明依据本发明之一具体实施例之一微影装置 ; 图2说明依据先前技术之一照射源; 图3a说明依据本发明之一具体实施例之一照射源; 图3b显示沿图3a之喷注之线IIIb至IIIb之一断面; 图4说明依据本发明之一照射源之一具体实施例中 之一喷注几何结构之一断面; 图5a说明依据本发明之另一具体实施例之一照射 源;及 图5b说明沿图5a中的线Vb至Vb之一断面。
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