| 主权项 |
1.一种高精确度反射器之制造方法,其步骤包括: -提供一至少包含一种金属的主体; -使用至少一种材料移除机器加工方法来制造一反 射器几何图形。 2.如申请专利范围第1项之制造方法,其中该材料移 除机器加工方法包括晶片形成方法,特别是转动及 /或研磨。 3.如申请专利范围第1项之制造方法,其中该材料移 除机器加工方法包括放电加工。 4.如申请专利范围第1项之制造方法,其中该反射器 表面系于至少部分处被磨砂(lapped)、研磨及/或抛 光。 5.如申请专利范围第1项之制造方法,其中产生一实 质上抛物面或椭圆形的反射器几何图形。 6.如申请专利范围第1项之制造方法,其中使用一材 料移除方法,在该反射器的后面边制造出至少一种 结构。 7.如申请专利范围第6项之制造方法,其中该结构包 括至少一个螺纹、冷却肋片及/或固定工具。 8.如申请专利范围第1项之制造方法,其中该主体包 括不锈钢、铝、铜及/或银。 9.如申请专利范围第1项之制造方法,其中该反射器 涂布有一反射层,特别是一包含铝及/或银的层。 10.如申请专利范围第9项之制造方法,其中于该反 射层施加一交替层,特别是一包含氧化矽及氧化钛 的交替层。 11.如申请专利范围第1项之制造方法,其中该反射 器涂布有一冷光镜层。 12.如申请专利范围中第11项之制造方法,其中该冷 光镜层包含一氧化铬层。 13.如申请专利范围中第12项之制造方法,其中于该 冷光镜层施加一交替层,特别是一包含氧化矽及氧 化钛的交替层。 14.如申请专利范围第1项之制造方法,其中利用PVD 或CVD方法来沉积至少一层。 15.如申请专利范围第14项之制造方法,其中在一涂 布装置中施加至少二层。 16.一种具有反射内边及外边的反射器,其特别可利 用如申请专利范围第1项的方法来产生,该反射器 包括一金属基材及至少一层利用PVD或CVD方法所沉 积的涂层。 17.如申请专利范围第16项之反射器,其至少在该外 边上具有冷却肋片。 18.如申请专利范围第16项之反射器,其包括冷却通 路。 19.如申请专利范围第16项之反射器,其包含至少一 个用来连接至一外部冷却线路的凸缘。 20.如申请专利范围第16项之反射器,其包括至少一 个至少部分填充冷却剂的腔穴。 21.如申请专利范围第20项之反射器,其中该冷却剂 在大约操作温度处具有一相转换,特别是该冷却剂 包含丙烷及/或丁烷。 22.如申请专利范围第16项之反射器,其包括一固定 工具,特别是栓、沟槽、企口或圆锥体。 23.如申请专利范围第16项之反射器,其至少在该内 边上具有一可吸收红外线辐射的涂层。 24.如申请专利范围第16项之反射器,其至少在该内 边上包含一黑色层。 25.如申请专利范围第24项之反射器,其中该黑色层 包括TiCN、WCH或AlTiN层。 26.如申请专利范围第24项的反射器,其中该黑色层 包含一吸收釉瓷层。 27.如申请专利范围第24项之反射器,其中该黑色层 包含一吸收经阳极化层。 28.如申请专利范围第24项之反射器,其中该黑色层 包含一黑色铬及/或黑色镍层。 29.如申请专利范围第16项之反射器,其包括一至少 安排在该反射器的内边上之黑色层,且该黑色层在 可见光及亦特别在上至波长1800奈米的红外线范围 中之吸收度为至少80%,且上至波长2400奈米的吸收 度为至少75%较佳。 30.如申请专利范围第16项之反射器,其中该内边表 面的平均粗糙度Ra少于200奈米,少于50奈米较佳,少 于20奈米特别佳。 31.如申请专利范围第16项之反射器,其至少在该内 边上具有一少于200微米的容差区域范围,少于50微 米较佳,少于10微米特别佳。 32.如申请专利范围第16项之反射器,其至少在该反 射内边上具有一超过0.3毫米的材料厚度,超过0.8毫 米较佳,超过1.5毫米特别佳。 33.如申请专利范围第16项之反射器,其为单块形式 。 34.如申请专利范围第16项之反射器,其至少在该后 面边上具有一截面实质上呈现火山口形状的凹陷 。 35.一种涂布一金属反射器的方法,特别是如申请专 利范围第16项之金属反射器,该方法之步骤包括: -提供一反射器基材; -至少在该反射器基材的上面边沉积至少一层功能 层,特别是一吸收层及/或反射层。 36.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其中所使用的基材为一利用材料移除机器加 工法,从一固体材料所制造的反射器基材。 37.如申请专利范围第36项之涂布一金属反射器的 方法,其中所使用的反射器基材为一深压成型金属 反射器基材。 38.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其沉积一实质上可吸收红外线辐射的层。 39.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其沉积及氧化一金属层。 40.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其利用气相沉积法至少于该反射器的内边施 加一吸收黑色层。 41.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其中将一包括TiCN、WCH或AlTiN的吸收黑色层施 加于至少在该反射器的内边。 42.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其将一吸收釉瓷层施加于至少在该反射器内 边。 43.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其中利用电镀法或与该基材材料进行化学反 应而至少在该反射器的内边上产生一吸收经阳极 化层。 44.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其中将一吸收黑色铬或黑色镍层至少施加在 该反射器的内边。 45.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其中沉积有氧化物及/或氮化物层。 46.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其中在该金属基材上沉积至少一层反射层。 47.如申请专利范围第46项之涂布一金属反射器的 方法,其中所施加的反射层为一铝及/或银层。 48.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其中将一透明保护层施加至该反射器。 49.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其中施加一透明的交替层。 50.如申请专利范围第49项之涂布一金属反射器的 方法,其中该交替层包含氧化矽及氧化钛。 51.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其中会沉积至少一层氧化铬层。 52.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其中利用PVD,特别是溅镀或蒸发涂布法或CVD 方法来施加至少一层。 53.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其中在一真空装置中施加至少二层。 54.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其中冷却肋片实质上可锻接、焊接或黏着性 黏结至该后面边。 55.如申请专利范围第54项之涂布一金属反射器的 方法,其中该冷却肋片实质上形成如为鳍片,其安 排成与该反射器轴平行。 56.如申请专利范围第55项之涂布一金属反射器的 方法,其中该鳍片包括集中工具,特别是固定栓。 57.如申请专利范围第35项之涂布一金属反射器的 方法,其中首先在该反射器基材上沉积一反射层, 特别是一包含铝或银之层;然后,为一可吸收红外 线辐射的层,特别是氧化铬层;然后,为一交替层,特 别是包含氧化矽及氧化钛的交替层;此特别可利用 溅镀方法来进行。 58.如申请专利范围第57项之涂布一金属反射器的 方法,其中在一涂布装置中连续沉积该些层。 59.一种投影系统,其包含一金属反射器及一该金属 反射器用之支架,其中在该反射器与该支架间提供 一固定工具。 60.如申请专利范围第59项之投影系统,其中该固定 工具可为固定栓、企口及沟槽及/或圆锥体。 61.如申请专利范围第59项之投影系统,其中在该反 射器与该支架间安排有一导热糊状物。 62.如申请专利范围第59项之投影系统,其中该反射 器可替换。 63.如申请专利范围第59项之投影系统,其中该反射 器与支架可利用卡销锁合来连接。 64.如申请专利范围第59项之投影系统,其中该反射 器可闩在该支架中。 65.如申请专利范围第59项之的投影系统,其中该反 射器为一如申请专利范围第16项的反射器。 66.如申请专利范围第59项之投影系统,其中可将一 冷却剂导入该反射器与支架间。 67.如申请专利范围第59项之投影系统,其中该支架 包括一具有良好的热传导性之材料,特别是金属。 68.如申请专利范围第59项之投影系统,其中并无马 达驱动风扇形成该投影系统的一部分。 69.如申请专利范围第59项之投影系统,其中在该反 射器的前端中安排有至少一片透明板及/或镜片。 70.如申请专利范围第69项之投影系统,其中该板可 反射红外光。 71.如申请专利范围第59项之投影系统,其中该反射 器及/或支架可利用对流来冷却。 图式简单说明: 第1a图为根据本发明之反射器的概略截面图,其具 有一反射铝或银层及一在其上面的保护层(例如SiO 2); 第1b图为根据本发明之反射器的概略截面图,其具 有一反射铝或银层及一在其上面的SiO2及TiO2层之 交替层系统,以增加在该光谱的可见光范围中之反 射率; 第1c图为根据本发明之反射器的概略截面图,其具 有一反射铝或银层及一在其上面的冷光镜涂层,该 冷光镜涂层包含一氧化铬层及一在其上面由SiO2及 TiO2层所组成的交替层系统; 第1d图为根据本发明之反射器的概略截面图,其具 有一反射铝或银层、一在其上面由SiO2及TiO2层所 组成用以增加在该光谱的可见光范围中之反射率 的交替层系统、及一在其上面的冷光镜涂层,其中 该冷光镜涂层包含一氧化铬层及一在其上面由SiO2 及TiO2层所制得的交替层系统; 第1e图为根据本发明之反射器的概略截面图,其具 有一反射铝或银层及一在其上面的二部分冷光镜 涂层(其包含一氧化铬层及一在其上面由SiO2及TiO2 层所制得的交替层系统),和进一步一氧化铬层与 一在其上面由SiO2及TiO2层所制得的交替层系统; 第1f图为根据本发明之反射器的概略截面图,其具 有一反射铝或银层及一在其上面用来增加在光谱 的可见光范围中之反射率的交替层系统,和一在其 上面的二部分冷光镜涂层(其包含一氧化铬层及一 在其上面由SiO2及TiO2层所组成的交替层系统),和进 一步一氧化铬层与一在其上面由SiO2及TiO2层所组 成的交替层系统; 第1g图为根据本发明之反射器实例,其具有一吸收 黑色层及一在其上面的交替层系统; 第2图同样为根据本发明之反射器的概略截面图, 其具有一高功率灯; 第3图为根据本发明之反射器的概略图,其包含一 冷却肋片; 第4图为根据本发明之具有冷却肋片的反射器之概 略图; 第5图为根据本发明之具有火山口形凹陷的反射器 之概略立体图; 第6图为根据本发明之反射器的进一步概略截面图 ,其包含一集中工具及一反射保护板; 第7图为根据发明之反射器的概略图,其包含一外 部冷却剂进料系统; 第8图为根据本发明之反射器的进一步概略截面图 ,其包含一配备有冷却流体用之腔穴与冷却肋片的 基础主体; 第9图为一意欲用来涂布根据本发明之反射器的涂 布装置; 第10图为根据本发明之投影系统的概略图; 第11至13图为可使用作为红外线吸收层而用于根据 本发明之反射器的冷光反射器涂层之黑色层的反 射性光谱曲线图。 |
