| 主权项 |
1.一种曝光设备,包含: 一投影光学系统,其包含至少一反射元件,且投影 来自在物体上形成图型的一标线片的光;及 一驱动部份,其移动该至少一反射元件。 2.如申请专利范围第1项所述的曝光设备,其中该驱 动部份于该投影光学系统的一光学轴线方向移动 该至少一反射元件。 3.如申请专利范围第2项所述的曝光设备,其中该驱 动部份于与该光学轴线方向相交的方向移动该至 少一反射元件。 4.如申请专利范围第1项所述的曝光设备,其中该光 为极端紫外光,并且该曝光设备另外包含用来使用 该极端紫外光照明该标线片的一照明系统。 5.如申请专利范围第1项所述的曝光设备,其中由该 投影光学系统投影在物体上的投影影像的转移放 大率及/或该投影光学系统的畸变是藉着于该投影 光学系统的一光学轴线方向驱动该至少一反射元 件而被调整。 6.如申请专利范围第1项所述的曝光设备,其中由该 投影光学系统投影在物体上的投影影像的转移放 大率及/或该投影光学系统的畸变是藉着于垂直于 该投影光学系统的一光学轴线方向的方向驱动该 至少一反射元件而被调整。 7.一种曝光设备,包含: 一投影光学系统,其包含至少四个反射元件,且投 影来自在物体上形成图型的一标线片的光;及 一驱动部份,其于该投影光学系统的一光学轴线方 向移动该反射元件中的至少一个反射元件及该标 线片。 8.如申请专利范围第7项所述的曝光设备,其中该驱 动部份于与该光学轴线方向相交的方向移动该反 射元件中的该至少一个反射元件。 9.如申请专利范围第7项所述的曝光设备,其中该光 为极端紫外光,并且该曝光设备另外包含用来使用 该极端紫外光照明该标线片的一照明系统。 10.一种曝光设备,包含: 一投影光学系统,其包含至少一反射元件,且投影 来自在物体上形成图型的一标线片的光;及 一驱动部份,其于该投影光学系统的一光学轴线方 向及与该光学轴线方向相交的方向移动该至少一 反射元件。 11.一种曝光设备,包含: 一投影光学系统,其包含多个光学单元,该多个光 学单元中的至少一个光学单元具有一或多个反射 元件且可操作来于一预定方向驱动,该投影光学系 统从形成图型且可操作来于一光学轴线方向驱动 的一标线片投影光至物体上; 一驱动部份,用来驱动该标线片及该光学单元中的 至少一个光学单元;及 一控制部份,用来根据形成在物体上的图型的投影 影像的位置控制该驱动部份。 12.如申请专利范围第11项所述的曝光设备,其中该 预定方向为该光学轴线方向。 13.如申请专利范围第11项所述的曝光设备,其中该 预定方向为垂直于该光学轴线方向的方向。 14.如申请专利范围第11项所述的曝光设备,其中该 光为具有小于或等于20nm(毫微米)的波长的极端紫 外光。 15.一种曝光方法,用来经由一投影光学系统将形成 在被驱动于一光学轴线方向的一标线片上的图型 曝光,该投影光学系统包含多个光学单元,该多个 光学单元中的至少一个光学单元具有一或多个反 射元件,且可操作来于一预定方向驱动,该曝光方 法包含以下步骤: 获得指示物体上要形成该图型的位置的位置资讯; 根据在该获得步骤中所获得的位置资讯来产生在 物体的该位置上形成图型所须的校正资讯;及 根据在该产生步骤中所产生的校正资讯来驱动该 标线片及该光学单元。 16.如申请专利范围第15项所述的曝光方法,其中该 驱动步骤驱动其中用来形成该图型的投影影像的 主要射线系位在分开的位置处的光学单元。 17.一种设置有要被曝光的图型的装置的制造方法, 包含以下步骤: 使用一曝光设备来曝光一物体;及 对曝光的物体实施一预定处理; 其中该曝光设备包含一投影光学系统,其包含至少 一反射元件,且投影来自在物体上形成图型的一标 线片的光;及一驱动部份,其移动该至少一反射元 件。 18.一种设置有要被曝光的图型的装置的制造方法, 包含以下步骤: 使用一曝光设备来曝光一物体;及 对曝光的物体实施一预定处理; 其中该曝光设备包含一投影光学系统,其包含至少 四个反射元件,且投影来自在物体上形成图型的一 标线片的光;及一驱动部份,其于该投影光学系统 的一光学轴线方向移动该反射元件中的至少一个 反射元件及该标线片。 19.一种设置有要被曝光的图型的装置的制造方法, 包含以下步骤: 使用一曝光设备来曝光一物体;及 对曝光的物体实施一预定处理; 其中该曝光设备包含一投影光学系统,其包含至少 一反射元件,且投影来自在物体上形成图型的一标 线片的光;及一驱动部份,其于该投影光学系统的 一光学轴线方向及与该光学轴线方向相交的方向 移动该至少一反射元件。 20.一种设置有要被曝光的图型的装置的制造方法, 包含以下步骤: 使用一曝光设备来曝光一物体;及 对曝光的物体实施一预定处理; 其中该曝光设备包含一投影光学系统,其包含多个 光学单元,该多个光学单元中的至少一个光学单元 具有一或多个反射元件且可操作来于一预定方向 驱动,该投影光学系统从形成图型且可操作来于一 光学轴线方向驱动的一标线片投影光至物体上;一 驱动部份,用来驱动该标线片及该光学单元中的至 少一个光学单元;及一控制部份,用来根据形成在 物体上的图型的投影影像的位置控制该驱动部份 。 21.一种投影光学系统,用来将来自一物体表面的极 端紫外光成像在一影像表面上,该投影光学系统包 含多个光学单元,该多个光学单元中的至少一个光 学单元具有一或多个反射元件,且可操作来于一光 学轴线方向驱动。 22.一种投影光学系统,用来将来自一物体表面的极 端紫外光成像在一影像表面上,该投影光学系统包 含多个光学单元,该多个光学单元中的至少一个光 学单元具有一或多个反射元件,且可操作来于垂直 于一光学轴线方向的方向驱动。 23.一种曝光设备,包含: 一投影光学系统,其包含至少一反射元件,且投影 来自在物体上形成图型的一标线片的光;及 一驱动部份,其于该投影光学系统的一光学轴线方 向移动该标线片。 24.一种设置有要被曝光的图型的装置的制造方法, 包含以下步骤: 使用一曝光设备来曝光一物体;及 对曝光的物体实施一预定处理; 其中该曝光设备包含一投影光学系统,其包含至少 一反射元件,且投影来自在物体上形成图型的一标 线片的光;及 一驱动部份,其于该投影光学系统的一光学轴线方 向移动该标线片。 图式简单说明: 图1为根据本发明的一实施例的曝光设备的结构图 。 图2为图1所示的投影光学系统的截面图。 图3为用来说明根据本发明的一实施例的曝光设备 的流程图。 图4为用来说明如何制造装置(例如诸如IC及LCD的半 导体晶片,CCD,及类似者)的流程图。 图5为如图所示的步骤4的晶圆制程的详细流程图 。 |
