发明名称 |
发光器件 |
摘要 |
一个目的是提高将TFT与有机发光元件组合构成的发光器件的可靠性。在与发光器件(1200)的结构元件相同的衬底(1203)上形成TFT(1201)和有机发光元件(1202)。在TFT(1201)的衬底(1203)侧上形成起阻挡层作用的第一绝缘薄膜(1205),在相反的上层侧上形成作为保护薄膜的第二绝缘薄膜(1206)。此外,在有机发光元件(1202)的低层侧上形成起势垒层作用的第三绝缘薄膜(1207)。第三绝缘薄膜是由无机绝缘薄膜如氮化硅薄膜、氮氧化硅薄膜、氮化铝薄膜、氧化铝薄膜或者氮氧化铝薄膜形成的。用相似的无机绝缘薄膜在有机发光元件(1202)的上层侧上形成第四绝缘薄膜(1208)和隔离(1209)。 |
申请公布号 |
CN100380672C |
申请公布日期 |
2008.04.09 |
申请号 |
CN02148147.4 |
申请日期 |
2002.10.30 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
山崎舜平;高山彻 |
分类号 |
H01L27/15(2006.01);H01L33/00(2006.01);H05B33/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/15(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
王岳;梁永 |
主权项 |
1.一种发光器件,该器件包括:第一绝缘薄膜,该薄膜包括氮化硅或氮氧化硅;半导体层,该层在第一绝缘薄膜之上;栅极绝缘薄膜,该薄膜在半导体层之上;栅极电极,该电极在栅极绝缘薄膜之上;第二绝缘薄膜,该薄膜在栅极电极之上,包括氮化硅或氮氧化硅;第三绝缘薄膜,该薄膜在第二绝缘薄膜之上,包括从包括氮化硅、氮氧化硅、氮氧化铝、氧化铝和氮化铝的组中选择的无机绝缘材料;在所述第三绝缘薄膜上包含有机树脂的层;隔离层,该层在所述包含有机树脂的层之上,包括从包括氮化硅、氮氧化硅、氮氧化铝、氧化铝和氮化铝的组中选择的无机绝缘材料;第四绝缘薄膜,该薄膜在第三绝缘薄膜和隔离层之上,包括从包括氮化硅、氮氧化硅、氮氧化铝、氧化铝和氮化铝的组中选择的无机绝缘材料;发光层,该层包括被第三绝缘薄膜、第四绝缘薄膜和隔离层包围的有机化合物;以及阴极,该阴极与发光层接触。 |
地址 |
日本神奈川县 |