发明名称 |
SnO<SUB>2</SUB>为衬底的微晶硅薄膜太阳电池用透明导电薄膜的制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种SnO<SUB>2</SUB>为衬底的微晶硅薄膜太阳电池用透明导电薄膜的制备方法,所述透明导电薄膜为非晶硅碳、非晶硅氧,所述在SnO<SUB>2</SUB>衬底上制备透明导电薄膜的沉积方法为等离子体增强化学气相沉积、热丝化学气相沉积或者甚高频等离子体增强化学气相沉积。本发明采用与制备微晶硅太阳电池相同的化学气相沉积技术,在制备微晶硅太阳电池制备同时,原位沉积具有高光透过、种子层和保护层功能的微晶硅太阳电池用透明导电薄膜,不需要更换沉积系统,工艺简单且有利于降低成本。 |
申请公布号 |
CN101159297A |
申请公布日期 |
2008.04.09 |
申请号 |
CN200710150231.0 |
申请日期 |
2007.11.19 |
申请人 |
南开大学 |
发明人 |
张晓丹;赵颖;熊绍珍;耿新华 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01) |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01) |
代理机构 |
天津佳盟知识产权代理有限公司 |
代理人 |
廖晓荣 |
主权项 |
1.一种SnO2为衬底的微晶硅薄膜太阳电池用透明导电薄膜的制备方法,所述微晶硅薄膜太阳电池包括SnO2衬底及依次沉积在SnO2衬底上的透明导电薄膜、P型微晶硅、I型本征微晶硅和N型非晶硅,其特征在于:所述在SnO2衬底上制备透明导电薄膜的沉积方法和制备P型微晶硅、I型本征微晶硅、N型非晶硅的沉积方法相同,该沉积方法采用等离子体增强化学气相沉积、热丝化学气相沉积或者甚高频等离子体增强化学气相沉积。 |
地址 |
300071天津市南开区卫津路94号 |