| 发明名称 | 用于砂磨的光敏组合物以及含该组合物的光敏膜层压物 | ||
| 摘要 | 公开了一种砂磨用光敏组合物和具有包括该光敏组合物的光敏层的光敏膜层压物。所述光敏组合物包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团并具有如下结构单元的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)碱溶性化合物，和(C)光致聚合引发剂。 | ||
| 申请公布号 | CN100380232C | 申请公布日期 | 2008.04.09 |
| 申请号 | CN99118105.0 | 申请日期 | 1999.08.17 |
| 申请人 | 东京応化工业株式会社 | 发明人 | 水泽龙马;朝日伸吉;中里俊二;带谷洋之 |
| 分类号 | G03F7/035(2006.01);G03F7/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/035(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 朱黎明 |
| 主权项 | 1.一种砂磨用的光敏组合物，它包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，其结构单元如下：<img file="C991181050002C1.GIF" wi="363" he="159" />(B)碱溶性化合物，和(C)光致聚合引发剂，所述聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的重均分子量为1,000-30,000，并且所述低聚物的分子中具有4根或更多根氨基甲酸酯键。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||