| 发明名称 | 感应器及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种感应器及其制造方法，根据一个实施例的一种用于制造感应器的方法包括以下步骤：形成第一光致抗蚀剂图案；通过第一光致抗蚀剂图案的方式将杂质离子注入衬底，以形成形成感应器的杂质区，并形成衬垫区，该衬垫区施加电流在杂质区的两端；形成第二光致抗蚀剂图案，以暴露与杂质区区具有预定间隔的位置；以及通过第二光致抗蚀剂图案的方式注入与所述杂质离子相同的杂质离子来形成与杂质区隔开的位置中的安全杂质区。 | ||
| 申请公布号 | CN101159231A | 申请公布日期 | 2008.04.09 |
| 申请号 | CN200710148558.4 | 申请日期 | 2007.08.29 |
| 申请人 | 东部高科股份有限公司 | 发明人 | 郑智薰 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01);H01L21/266(2006.01);H01L27/04(2006.01) | 主分类号 | H01L21/02(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 夏凯;钟强 |
| 主权项 | 1.一种用于制造感应器的方法，包括：形成第一光致抗蚀剂图案；使用所述第一光致抗蚀剂图案作为掩模将第一杂质离子注入到衬底，以形成感应器区和衬垫区，所述衬垫区被配置为在所述感应器区的两端施加电流；形成第二光致抗蚀剂图案，以暴露与所述杂质区具有预定间隔的位置；以及通过使用所述第二光致抗蚀剂图案作为掩模注入与第一杂质离子相同类型的第二杂质离子来形成暴露位置中的安全区。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||