| 发明名称 | 无碱玻璃基板的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种无碱玻璃基板的制造方法，其特征在于，该无碱玻璃基板是配合熔化并成形玻璃原料的无碱玻璃基板，该无碱玻璃基板的制造方法的特征在于：使所述无碱玻璃基板含有SnO<SUB>2</SUB>和/或Sb<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>作为澄清剂，并且将玻璃的β－OH值调节在0.485～0.65/mm。按质量百分比含有SiO<SUB>2</SUB>50％～70％、Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>10％～25％、B<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>5％～20％、MgO0％～10％、CaO0％～15％、BaO0％～10％、SrO0％～10％、ZnO0％～5％，含有SnO<SUB>2</SUB>和/或Sb<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>，同时，β－OH值在0.485/mm以上。 | ||
| 申请公布号 | CN101157516A | 申请公布日期 | 2008.04.09 |
| 申请号 | CN200710142291.8 | 申请日期 | 2004.09.02 |
| 申请人 | 日本电气硝子株式会社 | 发明人 | 成田利治;高谷辰弥;笘本雅博 |
| 分类号 | C03C1/00(2006.01);C03C3/091(2006.01) | 主分类号 | C03C1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1.一种无碱玻璃基板的制造方法，该无碱玻璃基板是配合熔化并成形玻璃原料的无碱玻璃基板，该无碱玻璃基板的制造方法的特征在于：使所述无碱玻璃基板含有SnO2和/或Sb2O3作为澄清剂，并且将玻璃的β-OH值调节在0.485～0.65/mm。 | ||
| 地址 | 日本国滋贺县 | ||