发明名称 |
利用消除辅助特征来提高处理范围的方法 |
摘要 |
一种通过使用光刻装置将光刻图案传送到基底上的方法。该方法包括步骤:(1)定义要印刷到基底上的特征;(2)确定哪些特征需要在其周围布置辅助特征,使得这些特征可以在定义的分辨率的范围内印刷;(3)生成一个包括需要印刷的特征和辅助特征的掩膜;(4)进行第一照射处理,使得将特征印刷到基底上,第一照射处理将辅助特征部分印刷到基底上;和(5)进行第二照射处理,使得减少印刷到基底上的辅助特征的量;第二照射处理必须进行四极照射的步骤。 |
申请公布号 |
CN100380233C |
申请公布日期 |
2008.04.09 |
申请号 |
CN02154272.4 |
申请日期 |
2002.11.28 |
申请人 |
ASML蒙片工具有限公司 |
发明人 |
J·F·陈;D·-F·S·苏;M·F·A·厄林斯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
1.一种通过使用光刻装置将光刻图案传送到基底上的方法,所述方法包括步骤:定义要印刷到所述基底上的待印刷特征;确定哪些待印刷特征需要在其周围布置辅助特征,使得所述待印刷特征可以在定义的分辨率的范围内印刷;形成一个包括所述待印刷特征和辅助特征的掩膜;进行第一照射处理,使得将所述待印刷特征印刷到基底上,所述第一照射处理将所述辅助特征被部分地印刷到所述基底上;和,进行第二照射处理,使得减少印刷到所述基底上的所述辅助特征的量;所述第二照射处理包括进行四极照射的步骤。 |
地址 |
荷兰维尔德霍芬 |