发明名称 在光调制器式投影系统中焦面以外的光调制
摘要 一种显示装置包括:a.一个光栅光阀,它位于一个行照明光的焦面附近但是不在该焦面上,使得光栅光阀在操作中产生一个线性图像;b.耦合到线性图像的聚焦装置;c.耦合到线性图像的扫描装置,使得该聚焦装置和扫描装置在操作中产生一个二维图像;d.密封玻璃,它被耦合到光栅光阀,使得行照明光在到达光栅光阀之前通过密封玻璃;以及e.在密封玻璃的表面上附着的一个吸收孔,密封玻璃的所述表面位于行照明光的焦面的附近。本发明还提供了在基于光栅光阀的投影系统中的焦面之外调制光的方法、显示系统、在基于光调制器的投影系统的焦面之外调制光的显示装置以及光阀。
申请公布号 CN100380168C 申请公布日期 2008.04.09
申请号 CN02811657.7 申请日期 2002.03.27
申请人 硅光机器公司 发明人 D·T·阿姆
分类号 G02B26/08(2006.01);G02B5/18(2006.01) 主分类号 G02B26/08(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 程天正;王忠忠
主权项 1.一种显示装置,它包括:a.一个光栅光阀,它位于一个行照明光的焦面附近但是不在该焦面上,使得光栅光阀在操作中产生一个线性图像;b.耦合到线性图像的聚焦装置;c.耦合到线性图像的扫描装置,使得该聚焦装置和扫描装置在操作中产生一个二维图像;d.密封玻璃,它被耦合到光栅光阀,使得行照明光在到达光栅光阀之前通过密封玻璃;以及e.在密封玻璃的表面上附着的一个吸收孔,密封玻璃的所述表面位于行照明光的焦面的附近。
地址 美国加利福尼亚州