发明名称 |
包括空腔的熔丝结构及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种熔丝结构,该熔丝结构包括插入在基板和熔丝材料层之间的空腔。所述空腔不形成于所述熔丝材料层的侧壁,或与所述基板相对的熔丝材料的表面。当所述熔丝材料层包括突出的端部和较窄的中间区时,在使用自对准蚀刻法时,空腔可以形成插入所述基板和熔丝材料层之间。所述空腔通过支撑所述熔丝材料层的一对牺牲层基座而被隔离。包封所述空腔从而通过使用包封介电层而形成空腔。作为替代,当形成插入所述基板和熔丝材料层之间的空腔时,可以使用阻挡掩模。 |
申请公布号 |
CN101159258A |
申请公布日期 |
2008.04.09 |
申请号 |
CN200710153741.3 |
申请日期 |
2007.09.14 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
阿尼尔·K·钦撒金迪;金德起;钱德拉撒克哈兰·科塞恩达拉曼 |
分类号 |
H01L23/525(2006.01);H01L21/768(2006.01) |
主分类号 |
H01L23/525(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
张波;许向华 |
主权项 |
1.一种熔丝结构,包括:通过空腔从基板分离的熔丝材料层,所述空腔不延伸至与所述基板相对的熔丝材料层侧。 |
地址 |
美国纽约阿芒克 |