发明名称 光扫描装置及光扫描装置的调整方法
摘要 本发明提供一种可以无描绘性能的劣化且可以谋求装置整体的小型化以及简洁化的光扫描装置以及使用了该装置的图像形成装置。为此,在具有光源装置(1)、将从该光源装置出射的光束导向偏向装置的入射光学系统(2)以及将被该偏向装置偏转了的光束导向被扫描面(6)上的成像光学系统(5)的光扫描装置中,该入射光学系统具有主扫描断面内的光焦度和正交于主扫描断面内的副扫描断面内的光焦度相互不同的变形聚光透镜,该成像光学系统具有在副扫描断面内使该偏向装置的偏向面或者其附近与该被扫描面呈共轭关系的光焦度,并使之满足条件式。
申请公布号 CN100380170C 申请公布日期 2008.04.09
申请号 CN200510116088.4 申请日期 2005.10.28
申请人 佳能株式会社 发明人 石部芳浩
分类号 G02B26/10(2006.01);G02B3/00(2006.01);G03G15/04(2006.01) 主分类号 G02B26/10(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 曲瑞
主权项 1.一种光扫描装置,具有光源装置、将从该光源装置出射的光束导向偏向装置的入射光学系统和将被该偏向装置反射了的光束导向被扫描面上的成像光学系统,在副扫描断面内该偏向装置的偏向面或者该偏向面的附近与该被扫描面满足共轭关系,其特征在于:上述入射光学系统具有具备主扫描方向的光焦度和副扫描方向的光焦度、且主扫描方向的光焦度和副扫描方向的光焦度相互不同的变形聚光透镜,在取上述成像光学系统副扫描方向的横向放大率为β、通过上述成像光学系统会聚的成像点的副扫描方向束腰位置处的光束半径为w0、自上述光源装置出射的光束的波长为λ0(mm)时,其满足1≤β2 δx×β2≤2.3 56×w0 2/λ0 δx≥0.1mm这样的条件,其中δx为光源装置的发光点的光轴方向的位置误差,上述变形聚光透镜的折射部的主扫描方向的光焦度以及副扫描方向的光焦度均具有正的光焦度,上述变形聚光透镜的衍射部的主扫描方向的光焦度以及副扫描方向的光焦度均具有正的光焦度,在取上述折射部的主扫描方向的光焦度为φrefrM、上述衍射部的主扫描方向的光焦度为φdiffM、上述折射部的副扫描方向的光焦度为φrefrS、上述衍射部的副扫描方向的光焦度为φdiffS时,其满足1.437≤φrefrM/φdiffM≤2.6691.437≤φrefrS/φdiffS≤2.669这样的条件。
地址 日本东京
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