发明名称 Transistor, Speicherzellenfeld und Verfahren zur Herstellung eines Transistors
摘要 Ein Transistor (61) umfasst einen ersten (51) und einen zweiten (52) Source/Drain-Bereich, einen den ersten (51) und zweiten (52) Source/Drain-Bereich verbindenden Kanalbereich (53) sowie eine einen elektrischen Stromfluss im Kanalbereich (53) steuernde Gateelektrode (23). Die Gateelektrode (23) ist in einem Gategraben (25) angeordnet, der in einer Substratoberfläche (10) eines Halbleitersubstrats (1) definiert ist. Der erste (51) sowie der zweite (52) Source/Drain-Bereich erstrecken sich mindestens bis zu einer auf die Substratoberfläche (10) bezogenen ersten Tiefe (d1). Eine Oberkante der Gateelektrode (23) ist unterhalb der Substratoberfläche in einer auf die Substratoberfläche (10) bezogenen zweiten Tiefe (d2) vorgesehen, die geringer ist als die erste Tiefe (d1).
申请公布号 DE102006049158(A1) 申请公布日期 2008.04.03
申请号 DE20061049158 申请日期 2006.10.18
申请人 QIMONDA AG 发明人 KLUGE, JOHANNES VON
分类号 H01L27/105;H01L21/336;H01L21/8239;H01L27/108;H01L29/78 主分类号 H01L27/105
代理机构 代理人
主权项
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